硅钢资料

本发明公开了一种宽频率低铁损无取向电工钢及其制备方法，属于无取向电工钢生产制造技术领域。它从电工钢表面向内依次包括0.005mm～0.1mm的渗透层和钢材内芯；所述渗透层是由硅原子向电工钢内渗透形成，渗透层中的硅元素含量为3wt％～8wt％；所述钢材内芯包括2.0wt％～5.5wt％的硅元素和不少于93.2wt％的铁元素。本发明能保证无取向电工钢具有低频低铁损性能同时有效降低高频条件下的铁损，具体铁损性能为：铁损P1.5/50≤2.35W/kg，铁损P1.0/400≤13.8W/kg。

本发明揭示了一种无取向硅钢及其生产方法。所述生产方法包括：按照Si0.8～1.1％、Mn0.2～0.4％、不添加Sn和Sb进行炼钢，并制坯；将铸坯加热到1060～1120℃并保温150min以上，而后轧成厚度40～45mm的中间坯，再经精轧、卷取得到厚度为3.00±0.25mm的热轧卷板，精轧开轧温度≤872℃+1000*(11*[Si]‑14*[Mn]+21*[Al])；精轧终轧温度≤820℃，卷取温度≤560℃；常化、酸连轧，得到厚度为0.500±0.005mm的冷硬卷，常化温度850～900℃；成品退火温度820～880℃，退火后经冷却、涂层和精整，得到无取向硅钢。

本发明公开了用于激光切割硅钢片及超薄件的高效快速定位夹紧装置，属于激光切割机技术领域。用于激光切割硅钢片及超薄件的高效快速定位夹紧装置，包括基体，所述基体内设有储渣腔，还包括：长条板，通过支块对称固定连接在所述基体的两侧；两组传送辊，转动连接在所述长条板上，本发明可以对硅钢片快速的进行锁紧固定，防止激光切割机在对硅钢片进行切割时，硅钢片发生移动，有效的提高了对硅钢片的切割精度和切割效率，同时切割产生的废料则会在自身重力的作用下掉落进储渣腔内进行收集，从而便于工作人员后续对废料进行集中处理，在对硅钢片进行传送时，可以增大硅钢片与传送辊之间的摩擦力，有效的提高了在传送硅钢片时的稳定性。

本发明涉及低温取向硅钢片制造领域，具体为一种重质硅钢级氧化镁的生产工艺。为提升现有取向硅钢片的表面质量，将工业氧化镁、聚乙烯醇粘结剂和水在不锈钢反应罐中水热合成氢氧化镁，经压滤、煅烧、冷却、气流粉碎、包装产物为重质硅钢级氧化镁。产品具有生产工艺独特、成本较低，能明显提高取向硅钢片的表面质量和增加磁感应强度，降低铁损，提高取向硅钢片的正品率。可针对性在取向硅钢片生产厂家推广使用。

本实用新型公开了一种成品取向硅钢片加工用的卷绕装置，包括机箱和卷绕机，所述机箱的下表面固定安装有底座，所述机箱的一侧表面靠近上方固定安装有控制箱，所述机箱的两侧表面靠近前方固定安装有伸缩机，所述机箱的前端面固定安装有挡板，所述挡板的前端设有卷绕机，所述底座的上表面且位于卷绕机的下方固定安装有定位筒，所述定位筒的内部活动安装有托杆。本实用新型所述的一种成品取向硅钢片加工用的卷绕装置，可以有效的控制卷绕机卷绕取向硅钢片的厚度，从而保证每次卷绕取向硅钢片的厚度都相同，利用伸缩机可以对不同宽度的取向硅钢片进行边缘位置的夹紧，并且可以控制卷绕板与卷绕机之间的间距，从而控制卷绕后取向硅钢片的内径大小。

本实用新型涉及一种摩托车点火器线圈用硅钢片，包括E型件和I型件，所述E型件和I型件可组合成日字形；所述E型件包括竖边和设置在竖边三个横边，所述竖边与三个横边接触的位置设置孔眼；所述孔眼内径从为变径结构；位于E型件正面设置散热线槽，所述散热线槽一端与孔眼贯通，另一端指向凸部；位于E型件背面在散热线槽正对位置设置外凸线，所述I型件一侧设置与凸部匹配的凹部，在所述凹部之间凸台；所述凸台与凹台重叠；在凸台与凹部之间设置凸棱，所述凸棱位于I型件外侧。本实用新型设计新颖，改进巧妙，由于E型件具有弧形边可以有利于拾取，方便工作操作，同时采用采用接触的方式接触，增加了组合体的稳定性。

本实用新型公开了一种变压器铁芯硅钢片叠装对齐工装，包括叠装平台、定位板、推齐板和下压板；定位板和推齐板分别位于叠装平台的两侧，下压板位于叠装平台的上方；定位板用于对铁芯长度或宽度侧进行定位；推齐板平推铁芯使各硅钢片抵靠定位板而对齐；下压板下压铁芯使各硅钢片叠装紧密。本实用新型提供的一种变压器铁芯硅钢片叠装对齐工装，能够提高铁芯生产精度，并提高硅钢片叠装效率。

本发明公开了一种高磁感取向硅钢实验室轧机一次冷轧方法，包括：1)取样，实验室冷轧材料选取经过常化酸洗后的厚度为2.3mm的取向硅钢试样；2)制样，利用取向硅钢专用剪板机，裁剪试样尺寸为轧向600mm×横向150mm；将试样表层轻涂一层薄薄的轧制油；3)冷轧轧制规程制定，轧前厚度为2.3mm；其中：轧制总道次为6次时轧后厚度为0.35mm，轧制总道次为7次时轧后厚度为0.27mm，轧制总道次为8次时轧后厚度为0.23mm。本发明的目的是提供一种高磁感取向硅钢实验室轧机一次冷轧方法，为工业试制提供一定的技术参考，以及后续工艺研究提供了更加可靠的试样和条件。

本发明公开了一种降低取向硅钢铁损的方法。本发明所述方法包括如下步骤：(1)将取向硅钢样品腐蚀，清理后，拍摄得到晶粒分布图；(2)计算平均晶粒大小S，确定刻痕间距；刻痕间距与晶粒大小S的关系为：S＜600mm2时，刻痕宽度为5.0mm；600≤S＜1000mm2时，刻痕宽度为4.5mm；1000≤S＜1400mm2时，刻痕宽度为4.0mm，S≥1400mm2时，刻痕宽度为3.5mm。本发明通过计算不同来料晶粒大小确定其刻痕间距的大小，通过对刻痕间距的调整，降低了取向硅钢的铁损。

一种在取向硅钢中获得沿晶断口的方法：将取向硅钢样品加工成俄歇电子能谱仪标准试样；对标准试样进行表面清理；充氢：将标准试样所设定的预设断口处放入充氢装置的含硫脲溶液中，并使取向硅钢样品为阴极；将铂片置入并作为阳极；阴极充氢电流为1.25～1.35A，充氢电流密度在0.1～0.8A/m2，充氢时间在12～50h，充氢电压为36～39V；进行表面分析。本发明不仅工艺简单，便于操作，用时短，所用毒化剂是硫脲，从而避免了采用剧毒的三氧化二砷作为毒化剂，对人体健康有极大威胁的问题，且所获得的取向硅钢断口均为典型沿晶断口，适用于取向硅钢晶界偏聚行为以及晶界微区成分分析。

本发明提供一种无取向硅钢用涂层溶液及其制备方法和应用，以所述无取向硅钢用涂层溶液的总质量为基础计，所述无取向硅钢用涂层溶液包括如下质量百分含量的原料组分：磷酸盐溶液55％～60％；树脂溶液20％～25％；二乙二醇丁醚2％～4％；改性剂3％～5％；余量为水。由本发明所述无取向硅钢用涂层溶液形成的绝缘涂层厚度均匀，表面光滑，具有优良的绝缘性、耐腐蚀性、附着性，而且硅钢片的冲片性能好、叠片系数高。

本发明属于硅钢制备技术领域，具体涉及一种无底层取向硅钢的制备方法。其中，所述脱碳退火的过程中，带钢表层的氧化膜厚度为1.5～2.5μm；所述氧化膜中Si元素和Fe元素的原子重量比满足：Si/(Si+Fe)≥0.76；所述高温退火的过程中，冷却段依次包括：在温度为1200～500℃时，罩内冷却；其中，保护气体为包括有氮气和氢气的混合气体，所述混合气体中氢气的体积百分比＞3％；在温度为500～200℃时，罩内冷却；其中，保护气体为氮气；在温度＜200℃时，揭开内罩进行空气冷却。本发明提供的无底层取向硅钢的制备方法中，通过控制带钢在脱碳退火阶段的氧化膜厚度以及高温退火的冷却段等一些工艺，从而得到了表面光洁化好、表面均质化好、成材率高、磁性能优良的无底层取向硅钢。