钢厂
CN202111069865.X一种改善高牌号无取向硅钢冷轧断带的控制方法
本发明涉及无取向硅钢技术领域,尤其涉及一种改善高牌号无取向硅钢冷轧断带的控制方法。按重量百分比计:[Si+Al]≥4.0%;Mn、S含量满足:S≤0.0015,[Mn]/[S]:200~400;1)热轧过程中使用保温罩,热轧轧制时投入边部加热,头尾100米内卷曲温度提高15~30℃;2)常化机组圆盘剪进行边部剪边前增加加热装置,剪切后增加毛刺打磨装置,采用煤气明火加热,保证钢板温度在韧脆转变温度以上;3)圆盘剪间隙满足关系式:ds=(0.15~0.45)d0ds:圆盘剪间隙,μm;d0:常化板板厚,mm;4)常化采用快速加热,控制钢带的预热段升温速度320~380℃/min,机组速度20~30m/min;5)常化工艺后,控制边部小于20μm的晶粒占比在5%以内。有效的减少了冷轧断带的发生,提高成材率1.30%以上,降低了生产成本。
温度及扩散时间对CVD法制备高硅钢的影响
采用CVD法制备6.5%Si高硅钢,介绍了具体的制备工艺过程,研究了温度对渗硅速率和试样质量减轻的影响,同时分析了扩散时间对高硅钢中硅分布的影响。结果表明:在CVD反应过程中,反应温度高于1050℃将大大提高渗硅速率,但当温度大于1200℃后,渗硅速率趋于稳定;渗硅后,试样会减轻、减薄,随着温度升高,试样质量减轻的速率逐渐增大,在1200℃左右趋于稳定;扩散时间越长,硅分布越均匀,结合制备效率进行考虑,满足Δw表-中/b≤5的时间为适宜的扩散时间。 6.5%Si high silicon steel was manufactured by using CVD method and the process was introduced,the influence of temperature on the siliconizing rate and quality reducing rate,diffusion time on silicon distribution were investigated.Results as follows: the siliconizing rate will increase quickly when the temperature is higher than 1050 ℃,but the siliconizing rate will become steadily as the temperature up to 1200 ℃;The quality reducing rate will increase with the elevating of temperature and the r...
CN202120688969.8一种双条硅钢片铁芯卷绕机
本实用新型涉及卷绕机技术领域,具体为一种双条硅钢片铁芯卷绕机,包括转盘,用于驱动转盘旋转的电机,固设于转盘顶端中心上的铁芯型模,以及两个分立于铁芯型模的两侧且通过第一推力轴承转动连接转盘的转轴;转轴上套设有带盘,带盘上成卷绕制有硅钢片,且两个带盘上的硅钢片关于铁芯型模的中心呈中心对称分布,带盘的旋转方向与转盘的旋转方向相同。本实用新型通过两个带盘上的硅钢片同时卷绕在一个铁芯型模上,并使两个硅钢片的薄厚边叠加,弥补硅钢片的自身偏差对铁芯造成的影响,从而保证了铁芯性能的稳定性,并使铁芯卷绕速度增加一倍,提高了生产效率。
CN202110093429.X一种高性能取向硅钢冷轧工艺
本发明涉及一种高性能取向硅钢冷轧工艺,具体涉及取向硅钢制造技术领域。本发明的冷轧工艺包括一次冷轧和二次冷轧,其中,取向硅钢热轧板厚度在2.0~3.0mm,一次冷轧轧制采用4或5道次轧制,轧至厚度0.60~0.62mm,轧制温度为100℃~105℃;二次冷轧轧制采用2道次,轧至厚度0.24~0.26mm,轧制温度为95℃~100℃。本发明通过对一次冷轧和二次冷轧中各道次的压下率、轧制张力、轧制速度、轧制温度进行优化设计,从而能够进一步优化织构,确保二次冷轧板高斯织构含量在0.8~1.5%,且轧制稳定性高,进而有效保证了所得取向硅钢的磁性能。
CN202111172985.2一种无取向硅钢及其制备方法
本发明涉及无取向硅钢技术领域,具体提供了一种无取向硅钢的制备方法,对再结晶率为70‑90%、平均晶粒尺寸为10‑15μm、硬度HV为140‑170的硅钢半成品在温度为T=(772~777)+2900×W(Si)的条件下进行去应力退火,制得无取向硅钢,晶粒在去应力退火过程中均匀长大,平均晶粒尺寸80μm以上,有效降低铁损,使磁性能大幅度提高,铁损P1.5/50≤3.5W/kg,磁感B5000≥1.72T,电磁性能优异,满足客户使用要求,此外,本发明采用的硬度HV为140‑170的硅钢半成品在冲压过程中不易变形,机械加工性能优良。
RH精炼添加钙合金去除硅钢夹杂物研究
采用RH精炼添加钙合金方式对硅钢进行钙处理。结果表明,钙合金添加量为0.67、1.00、1.67kg/t钢时,钢中钙含量分别为0、2×10-6、4×10-6;随着钙合金添加量增大,钢中夹杂物粒度逐渐由0~2μm向2~4、4~6μm偏移;不同钙处理条件下,钢中均存在粒径小于1μm和粒径为1~5μm的MnS、CuxS夹杂物,后者或单独存在,或同AlN、CaS夹杂复合;粒径为5~10μm区间,钢中的夹杂物基本以钙的氧、硫化物为主。与钙处理前相比,钙合金添加量为0.67、1.00、1.67kg/t钢时,粒径小于1.0μm的微细夹杂物减少幅度分别为68.06%、87.50%、94.94%。钙合金添加量为1.67kg/t钢时,可以去除钢中绝大部分的微细夹杂物。 Ca alloy was added into the liquid steel during RH refining,and the results show that Ca concentration in final Si steel sheets is insignificant,about 0,2×10-6 and 4×10-6 when the added amount of Ca is 0.67,1.00 and 1.67 kg/t steel,respectively.With the increase in the added Ca alloy amount,the inclusions in the steel gradually change from those of 0~2 μm to those of 2~4 and 4~6 μm.Under different Ca treatments,there exist MnS and CuxS inclusions whose size is below 1 μm as well as MnS and CuxS ...
CN202111448726.8一种硅钢生产线上的牵引装置
一种硅钢生产线上的牵引装置,包含有底座(1)、支架(2)、平移机构(3)、上压板(4)、下托板(5)、气缸(6)、转向辊(7)和对中摄像头(8);所述的平移机构(3)包含有长条齿轮(14)、齿轮(15)、电机(16)和滚轮轴承(17);其特征在于:所述的齿轮(15)固定在电机(16)的输出轴上,并且与长条齿轮(14)啮合;使得平移机构(3)可以由电机(16)驱动在导轨(10)上左右滑动。本发明通过气缸(6)驱动上压板(4)和下托板(5)夹紧钢带(9),由平移机构(3)带动钢带(9)进行左右平移,避免了原先夹送辊刮伤钢带(9)表面涂层,减少了带头的浪费。
CN202110060727.9一种极薄取向硅钢铁芯及其制造方法
本发明公开了一种极薄取向硅钢铁芯及其制造方法,所述制造方法,包括:S1、剪切分条:将取向硅钢根据制作铁芯的宽度要求进行分条剪切;S2、卷绕:根据铁芯的规格型号要求,选取铁芯模具进行卷绕;S3、压块固定:将卷绕好的铁芯用压块固定;S4、退火加工:将固定好的铁芯,阶梯式升温至780℃保温3h退火处理,保护气氛为氮气,之后冷却降温;S5、浸胶:将降温后的铁芯,进行真空浸胶处理;S6、烘干:将浸胶处理后的铁芯烘干处理;S7、装配。该发明制造的极薄取向硅钢铁芯,能彻底消除内应力,磁路各处均无高磁阻存在,空载电流与励磁电流均大幅度下降,从而最大限度的恢复了极薄取向硅钢加工后原有择优取向织构及电磁性能。
CN202180045783.3取向性电磁钢板的制造方法和设备列
本发明提供一种以热轧卷为单元观察时具有在长边方向整个长度上均匀的织构,磁特性的变动小的取向性电磁钢板的制造方法。上述取向性电磁钢板的制造方法,包括如下步骤:将具有规定的成分组成的钢坯热轧而制成热轧板,将上述热轧板退火而制成热轧板退火板,对上述热轧板退火板实施1次或者隔着中间退火的2次以上的冷轧而制成最终板厚的冷轧板,对上述冷轧板实施一次再结晶退火和二次再结晶退火;至少1次冷轧的总压下率为80%以上,并且利用连轧机进行,利用上述连轧机的至少一个机架进行的轧制在压下率为30%以上且上述机架的工作辊的咬入温度T0℃的条件下进行,其中,将上述热轧板退火板的前端和尾端中的一方或两方的上述工作辊的咬入温度设为70℃以上且比上述钢板的温度T0℃高10℃以上的温度。
CN202111083756.3取向硅钢铸坯的制备方法及铸坯系统
本申请提供了一种取向硅钢铸坯的制备方法及铸坯系统,该制备方法用于对精炼后的钢水进行连铸处理,所述连铸处理包括以下步骤:进行凝固处理,以使所述精炼后的部分钢水凝固形成坯壳;凝固处理时,进行电磁搅拌,以使所述精炼后的剩余钢水最终形成铸坯,其中,所述电磁搅拌的位置和结晶器出口的间距为0.3~1.5m,所述电磁搅拌的电流范围为0A~900A。上述制备方法通过调节电磁搅拌的位置和电流大小来调节电磁搅拌的强度,进而通过电磁搅拌的强度来调节等轴晶的生成量,扩大等轴晶率的范围。

