硅钢资料

采用扫描电镜、场发射扫描电镜、能谱仪等对50SW1300冷轧无取向硅钢中的夹杂物分不同尺寸区间进行数量统计,利用主成分回归分析法,即数据的标准化处理—主成分分析—回归分析—标准化的变量还原成原始变量—确定显著影响因素,综合分析夹杂物总量及各尺寸区间的夹杂物数量对无取向硅钢磁性能的影响。结果表明:主成分回归分析能够从夹杂物尺寸区间及数量的多个影响因素中提取主要的因素,定量研究其对磁性能的影响。分析表明,显著影响无取向硅钢铁损的夹杂物为100~500nm的AlN、AlN+MnS、MnS、Al2O3、AlN+Al2O3,而劣化磁感最明显的夹杂物尺寸区间为100~200nm。 Different size intervals of inclusions in cold rolled non-oriented silicon steel 50SW1300 were counted by scanning electron microscope(SEM),field emission scanning electron microscope(FESEM)and energy disperse spectroscopy(EDS).With principal component regression method:standardization for experimental data,principal component analysis,regression analysis,transform standardized variables into original variables,determination of significant factor,effects of the total number of inclusions and the... 

以青海盐湖水氯镁石为初级原料,采用喷雾热解法制备原料氧化镁,原料氧化镁通过水化制备硅钢级氧化镁前驱体氢氧化镁。原料氧化镁水化实验中对水化剂、水化温度、水化时间、液固比、搅拌速度及陈化时间对水化率、过滤速度和纯度的影响进行系统研究。采用均匀实验设计和DPS数据处理,(依次)通过建模分析、二次多项式模型回归建立数学模型,再通过各因素方差分析和总方差分析,确定了理论最优实验条件,再用理论最优条件作重复实验进行验证,最终确定了原料氧化镁的最佳水化条件。在水化温度60℃,水化时间105 min,液固比4,陈化时间4 h,水化剂1含量4.0%,水化剂2含量3.15%,洗水量4倍,搅拌速度120 r/min时,原料氧化镁的水化率达99.50%以上,得到的硅钢级氧化镁前驱体氢氧化镁纯度高、过滤性能良好。 By spray pyrolysis method,bischofite in Qinghai salt Lake,as primary raw material,was used to prepare precursor raw material MgO for silicon-steel MgO.The precursor raw material MgO was used for preparing Mg(OH)2 which was the precursor of silicon-steel MgO,by hydration method.In the hydration experiment of precursor raw material MgO,some experiment parameters were investigated systematically.such as the hydrated agent,the temperature and time of hydration,liquid/solid ratio that affected the hy... 

本发明公开了一种适应高频率工况下低铁损无取向电工钢及其生产方法，所述生产方法包括以下步骤：钢水连续浇铸成板坯—热轧—正火—酸洗—冷轧—连续退火—涂绝缘涂层并固化；所述冷轧步骤中，采用六辊单机架往复式轧机经5道次一次冷轧至目标厚度，冷轧过程中前三道次采用变速异步轧制方法，使钢板表层在剪应力作用下位错密度增加，这样在退火后表层晶粒尺寸细化而心部晶粒粗大，通过本发明的方法可生产得到心部为粗大等轴晶粒，表层为纳米级细等轴晶粒的电工钢产品，该产品的铁损P1.5/50≤2.35W/kg，P1.0/400≤14.0W/kg。

本发明公开了一种硅钢含铬涂层废液处理过程中六价铬浓度在线监控方法，提出一种准确检测废液中六价铬含量的方法和检测时间的确定，实现了含铬废水原液中六价铬含量预测和焦亚硫酸溶液添加量的确定及六价铬在线检测预处理系统的启动时间的确定，确保处理装置安全高效运行。在酸化还原罐上安装氧化还原电位检测仪，实时检测含铬废液在整个处理过程中ORP的变化，推测含铬涂层废液中六价铬还原情况，初步判断还原过程的终点，为在线六价铬自动检测仪的启动提供依据，最终实现解毒后废液六价铬的含量低于0.05mg/L，达到六价铬含量超低处理的要求。

本发明涉及涂层液技术领域，且公开了取向硅钢绝缘涂层液，其配比为：二氧化硅10‑15%、硼酸5‑8%、磷酸二氢盐2‑5%、金属溶胶20‑25%、氢氧化铝占5‑6%、有机酸处理的复合盐溶液20‑30%、分散剂0.5‑1%，其余为水，采用硅溶胶作为辅助成膜物，粘结力较强，对附着性影响很大。硅溶胶能够很均匀地包裹在被胶结物质的表面，通过自干成膜，保持了很高的常温结合强度；而磷酸盐涂层的固化是通过受热分解，脱水聚合完成的，低温强度差，中温强度高，充分利用了硅溶胶低温的结合强度和磷酸盐中、高温时的结合性能，消除了常规涂层烘烤时容易出现的收缩、起泡现象，阻止了微气孔的形成，提高了涂层的表面光滑度，粘结强度和稳定性同时保持绝缘涂层的光泽、光滑和稳定性。

该电磁钢板用涂敷组合物含有环氧树脂、潜伏性环氧树脂固化剂和热塑性弹性体，上述热塑性弹性体的熔点为100℃～200℃，并且弯曲弹性模量为超过5MPa且为100MPa以下，相对于上述环氧树脂与上述潜伏性环氧树脂固化剂的合计100质量份，上述热塑性弹性体的含量为10质量份以上且低于40质量份。

本发明公开了一种适用于无取向硅钢极薄带表面涂覆的涂液，它由水溶性丙烯树脂、成膜助剂、耐盐雾助剂、流平剂、纳米氢氧化锆、消泡剂、水按质量比100:(2～8):(1～3):(1～5):(0～1):(0.1～0.5):(70～130)组成。将该涂液在无取向硅钢极薄带表面可表现出良好的涂覆性，经烘烤固化后形成的绝缘涂层表面透明光滑，附着性和绝缘性能优良，可有效提升无取向硅钢极薄带的综合性能，适合推广应用。

本发明涉及一种混合硅钢定子结构及与其配套的转子结构及永磁电机，属于电机技术领域，包括：定子，由多个第一硅钢片叠压构成；多个线圈绕组，均匀设置在定子的内壁上；第一硅钢片包括：多个连接块与多个连接臂，连接块与连接臂交替排列构成硅钢环片，连接块采用无取向硅钢且与两侧的连接臂通过拼合结构连接，连接臂采用取向硅钢；多个定子齿，呈放射状均匀设置在硅钢环片的内侧，定子齿与连接块也通过拼合结构连接，定子齿采用取向硅钢；本发明通过取向硅钢、无取向硅钢混合组成的定子，能够有效提导磁性能；本发明能够稳定提升定子上的磁性能，增加电机的输出能力，实用性强，值得推广。

本实用新型公开了一种变压器铁芯硅钢片的横剪打磨装置，包括出料平台、传送机构和打磨机构，所述出料平台的出料端设置有打磨机构，且两组所述打磨机构对称设置在硅钢片的上下两侧，两组所述打磨机构之间构成打磨通道，所述传送机构靠近于出料平台的出料端设置在出料平台上，且所述出料平台上的硅钢片通过传送机构依次朝向打磨通道内位移，通过两组对称设置的打磨机构对硅钢片的两侧面进行同时打磨，具有较高的打磨效率。

本发明公开了一种高磁感取向硅钢实验室轧机一次冷轧方法，包括：1)取样，实验室冷轧材料选取经过常化酸洗后的厚度为2.3mm的取向硅钢试样；2)制样，利用取向硅钢专用剪板机，裁剪试样尺寸为轧向600mm×横向150mm；将试样表层轻涂一层薄薄的轧制油；3)冷轧轧制规程制定，轧前厚度为2.3mm；其中：轧制总道次为6次时轧后厚度为0.35mm，轧制总道次为7次时轧后厚度为0.27mm，轧制总道次为8次时轧后厚度为0.23mm。本发明的目的是提供一种高磁感取向硅钢实验室轧机一次冷轧方法，为工业试制提供一定的技术参考，以及后续工艺研究提供了更加可靠的试样和条件。

本发明公开了一种变压器用硅钢片冲切设备，包括输送机、双向冲压机构、缓冲抬升机构和磁吸式清洁器四部分，输送机的末端安装有支撑架，双向冲压机构安装于支撑架上且由驱动机构、导向板、冲压头、连接器和冲切刀片组成，驱动机构的底部垂直安装于导向板的中部，导向板的两端与支撑架相连接，冲压头分设有两组且对称滑动设置于导向板上，驱动机构的两端与两组冲压头相连接，连接器安装于冲压头的末端，两组连接器的下端与冲切刀片的上沿转动连接。本发明所设计的冲切设备采用全自动运作的方式，并且配合有缓冲式的冲压机构，可以减小冲切过程中的形变率，整个机体的运作通过PLC控制器进行控制运作，提高装置的智能化程度。

采用CVD法制备6.5%Si高硅钢,介绍了具体的制备工艺过程,研究了温度对渗硅速率和试样质量减轻的影响,同时分析了扩散时间对高硅钢中硅分布的影响。结果表明:在CVD反应过程中,反应温度高于1050℃将大大提高渗硅速率,但当温度大于1200℃后,渗硅速率趋于稳定;渗硅后,试样会减轻、减薄,随着温度升高,试样质量减轻的速率逐渐增大,在1200℃左右趋于稳定;扩散时间越长,硅分布越均匀,结合制备效率进行考虑,满足Δw表-中/b≤5的时间为适宜的扩散时间。 6.5%Si high silicon steel was manufactured by using CVD method and the process was introduced,the influence of temperature on the siliconizing rate and quality reducing rate,diffusion time on silicon distribution were investigated.Results as follows: the siliconizing rate will increase quickly when the temperature is higher than 1050 ℃,but the siliconizing rate will become steadily as the temperature up to 1200 ℃;The quality reducing rate will increase with the elevating of temperature and the r...