硅钢资料

本实用新型公开了一种无取向硅钢的绝缘涂料喷涂装置，包括喷涂支架，所述喷涂支架安装有输送装置，所述喷涂支架的顶端侧壁水平方向固定有横向支撑板；本实用新型通过电机与第二行程开关接触启动工作，带动齿轮转动，驱动支撑杆左移，使喷涂喷头左移喷涂硅钢左端上表面，当电机接触到第一行程开关后，使电机工作带动齿轮反向转动，驱动支撑杆和喷涂喷头右移，在一定范围内，使喷涂喷头可以喷涂不同宽度的硅钢，通过施力转动螺杆，使螺杆左移、右移，使第一行程开关在水平方向移动，调节第一行程开关和第二行程开关之间的水平距离，从而调节喷涂喷头水平方向活动范围，根据硅钢宽度需求喷涂。

本实用新型涉及一种硅钢片抓取平台，其包括抓取框架，包括抓取框架，所述抓取框架上设有多个支架，对应于非切割区域的支架上设有大真空吸盘，对应于切割区域的支架上设有小真空吸盘。本实用新型结构简单，通过多个真空吸盘来进行硅钢片的抓取也不会损坏加工后的硅钢片，还提高了硅钢片的搬运效率。此外，通过气动系统实现对吸盘的自动吸气，提高了对吸盘操作的便利性。

【作者】 程志明； ...

【机构】 商务部进出口公平贸易局； ...

采用双辊连铸工艺制备了硅的质量分数分别为0.5%,1.0%,3.0%,4.5%的硅钢薄带,用光学显微镜观察其组织,并研究了后处理工艺对薄带组织和性能的影响。结果表明:硅含量为0.5%和1.0%的薄带适合采用一次冷轧+850～950℃退火的后处理工艺,而硅含量在3.0%以上的薄带适合采用二次冷轧+950℃退火的后处理工艺;硅含量为3.0%和4.5%的薄带在冷轧并950℃退火后,其磁性能最佳,铁芯损耗约为4.30 W·kg^-1,磁感应强度约为1.68T。 Silicon steel thin strips with silicon content of 0.5wt%,1.0wt%,3.0wt%and 4.5wt%were prepared by twin-roll continuous casting process,and the microstructure of the strips were observed by means of optical microscopy,and on the basis,the effect of post-treatment process on microstructure and properties of the strips was studied.The results show that the post-treatment process of one-time cold rolling and annealing between 850—950℃was suitable for the strips with silicon content of 0.5wt%and 1.0wt... 

本发明涉及一种变压器铁芯制造硅钢片绝缘涂装方法，其使用了一种涂装设备，该涂装设备包括基座、支撑架、转动装置、下降装置、滚涂装置与涂装仓，通过顺时针转动转动环，转动环转动带动齿轮转动，从而实现两个支撑弧形板展开的每个硅钢片进行内部支撑，通过向右推动推杆，从而对每个硅钢片进行阻隔，开启驱动电机，驱动电机输出端带动中心转轴转动，使滑动杆向下移送时带动匚型架向下移动，实现对匚型架内的硅钢片进行浸涂，匚型架向上移动时由于弹簧的作用力进行上下摆动，从而对硅钢片上多余的绝缘漆进行摆掉，开启电动推杆向前移动，从而对支撑弧形板外侧的多个硅钢片进行表面滚涂，避免硅钢片表面在浸涂绝缘漆时产生凸块。

本实用新型涉及硅钢开卷领域，具体涉及一种方便更换硅钢卷的结构，包括机架、支撑台、动力件、支撑块、支撑辊、第一挡环和第二挡环，动力件滑动设置于支撑台上，支撑辊与动力件连接，支撑辊的自由端与支撑块接触；第一挡环靠近支撑台且与支撑辊固定连接，第二挡环靠近支撑块且与支撑辊滑动连接，支撑辊沿其轴向设有键槽，第二挡环上固定有滑键，滑键滑动设置于键槽内；第二挡环上设有弧形通槽，机架上设有连接件，连接件能穿过弧形通槽与第二挡环固定连接。采用本技术方案时，有利于防止硅钢卷发生偏移，另外方便更换硅钢卷。

分别采用传统冷轧轧制液和纳米TiO₂的冷轧轧制液,对无取向硅钢板进行了四辊冷轧实验.重点研究两种冷轧轧制液的轧制润滑性能和对轧后硅钢薄带表面质量和耐蚀性能的影响.通过场发射电子显微镜和能谱仪对使用两种轧制液轧后得到的硅钢薄带表面形貌和成分进行了分析.给出了轧制液中TiO₂纳米粒子在轧制过程中的抗磨减摩机理.在轧制载荷较高时,纳米TiO₂轧制液具有优良的轧制润滑性能并能显著改善轧后硅钢薄带的表面质量.同时在高载荷作用下,TiO₂纳米粒子被压入硅钢薄带基体,形成一个滑动系来支撑载荷,从而使润滑膜的耐磨性提高. Non-oriented silicon steel strips were rolled on a four-high cold rolling mill lubricated by a traditional cold rolling liquid and a nano-TiO₂ cold rolling liquid,with emphasis on studying the rolling lubrication performance of both the liquids and their effect on the surface quality and corrosion resisting property of the silicon steel strips.The surface micrograph and composition of the silicon steel strips after being rolled with both the liquids were characterized by field emissio... 

本实用新型涉及板材加工设备领域，具体为变压器铁芯硅钢片打磨设备，包括本体，本体内部开设有工作腔，本体内部设置有用于运输硅钢片的运输机构，本体内部设置有用于打磨硅钢片的打磨机构，本体内部设置有用检测硅钢片边缘整洁程度的检测机构，本实用新型通过运输机构和打磨机构进行配合从而对硅钢片进行去除毛刺和毛边，从而保证铁芯中每组硅钢片均不直接接触；通过检测机构对加工完成的硅钢片进行毛刺和毛边的检测，进一步保证了每组硅钢片的整体质量以及尺寸的精准。

本发明揭示了一种超低铁损无取向硅钢及其生产方法，生产方法包括：依次采用铁水脱硫、转炉冶炼、RH炉精炼进行冶钢，最终所得钢水化学成分以质量百分比计为：C≤0.003％、Si：2.8～3.4％、Mn：0.1～0.5％、Al：0.6～1.3％、S≤0.0015％、N≤0.0020％、P≤0.03％、Ti≤0.003％、V≤0.003％、Nb≤0.003％，且同时满足3.80％≤Si+Al≤4.15％，其余为Fe以及不可避免的杂质；将冶炼所得钢水连铸成连铸坯；对连铸坯加热后经过多道次轧制得到热轧卷板；对热轧卷板的两侧边部进行剪切；常化酸洗，常化温度为900～930℃，常化时间为30～60s；经多道次冷轧成厚度为0.35～0.5mm的无取向硅钢，其中，第一道次冷轧时的压下率≥37％，轧制速率为70～180m/min。本发明制备的无取向硅钢具有超低铁损，而且冷轧时不易断带。

采用拉伸试验和显微组织观测的方法确定了GTN损伤模型中的9个损伤参数,运用GTN损伤模型对冷轧硅钢薄板边部缺陷的扩展及边裂的产生进行了有限元模拟,并与预置缺口的钢板轧制试验进行对比。结果表明:轧制过程中边部缺陷是造成钢板边部裂纹萌生和扩展的一个重要原因,GTN损伤模型可用来预测含边部缺陷硅钢薄板在冷轧过程中边裂的产生;预测结果与试验结果基本一致。 The crack initiation and propagation of silicon steel strip with edge defect during cold rolling process was studied by using GTN damage model in this paper.Nine damage parameters in GTN model were identified by tensile testing and microstructure observing,and then the FE simulation of edge defect evolution of silicon steel strip during rolling process was conducted on the base of GTN damage model,and then the results were compared with rolling experimental results.The results show that the edge... 

研究了应用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定硅钢中痕量铜和镍的分析方法。采用硝酸分解样品,通过内标校正和基体匹配消除了基体干扰的影响,同时根据测量时存在的质谱干扰情况,选择同位素65Cu和60Ni作为测定元素和通过调节仪器参数使双电荷离子的产率最低,以减少带来的干扰。该方法用于硅钢中痕量铜和镍的测定,所得的结果与ICP-AES法测定结果完全吻合,各元素测定结果的RSD值小于5%,加标回收率为97.3%～100.3%。 A method for the determination trace copper and nickel in silicon steel by inductively coupled plasma mass spectrometry(ICP-MS) was studied.The samples were dissolved in HNO3.The effect of matrix interference was eliminated by internal standard correction and matrix matching.Meanwhile,according to the mass spectral interferences in determination,the isotopes including 65Cu and 60Ni were used as measuring elements.The yield of double-charge ions were minimized by adjusting instrumental parameters...