硅钢资料

本发明涉及一种常化后免酸洗生产取向硅钢的方法，取向硅钢的生产工艺路线为：冶炼→连铸→热轧→常化退火→拉伸矫直→抛丸→冷轧→脱碳退火→渗氮→涂MgO→高温退火→热拉伸平整及涂绝缘膜；本发明在常化退火后通过物理方法去除带钢表面的氧化铁皮，且效率高、效果好、操作简单、易于控制；与常规工艺相比，省去了酸洗及后续废酸处理工作，排除了酸雾对环境的污染，消除了取向硅钢带因酸洗而产生的潜在缺陷，产品质量更加稳定可靠。

本实用新型公开了一种无取向硅钢厚涂层涂层液生产用纯水制水机，包括底板，底板顶端的两侧分别固定设有固定座和存水筒，固定座顶端的中部设有蒸馏组件，蒸馏组件包括球形釜，球形釜设置在固定座的顶部，球形釜的外部固定套设有导热层，导热层的内部固定嵌设有电热丝，导热层的外部固定套设有隔热层，本实用新型的有益效果是：通过设置的电热丝通过导热层对球形釜内部的水进行加热，球形釜提供更加均匀的受热效果，水蒸气通过V形管进入L形管，通过设置的环状冷却管内部的液氮对水蒸气进行冷却，便于提供更高效的蒸馏处理，通过设置的防腐蚀磁铁网格滤板、无纺布滤层、活性炭滤层和高密度滤网层，便于提供更好的过滤效果。

公开了一种取向硅钢酸洗圆盘剪的剪切方法，方法中，取向硅钢的钢带经酸洗槽酸洗、漂洗、烘干之后，清除表面的氧化铁皮后进入圆盘剪，根据所述钢带的宽度调整圆盘剪的机架之间的距离，根据钢带厚度h调节圆盘剪的上刀片和下刀片间隙△，以及上刀片和下刀片的边缘重叠量C，使得间隙△为h/0.9，重叠量C为1.05‑0.2*h，钢带通过上刀片和下刀片时，上刀片和下刀片施加剪切力于钢带上构成切断面，切断面占带钢厚度的1/5～1/3，随着咬合深度的增加，切断面的变形量也随之增加，直到切断面从钢带断裂形成撕断面。

对欧盟市场汽车压缩机专用产品进行技术解析,对比分析了其电磁性能、退火和发蓝处理、物理性能、化学成分、应用特点等参数。探讨国内外电工钢产品应用方式的不同特点,并结合鞍钢自身工艺装备和炼钢、热轧、冷轧工艺参数介绍了其生产可行性。提供了冶金工艺流程下,后工序电工钢专业生产线及传统冷轧系统生产线两种生产方式,均能满足用户最终使用要求。 The technology of automotive compressor accommodation manufacture of European Economic and Monetary Union market was described.The magnetic properties,annealing bluing,physical properties,chemical composition,application parameters were analysed.The different characteristics of the application of electrical steel products,the feasibility of manufacture on the existing technology and equipment,steelmaking,hot rolled,cold rolled technical parameters were discussed.The professional product line of ... 

本实用新型涉及变压器材料检测技术领域，具体为一种硅钢片检测装置，包括材料检测装置主体，材料检测装置主体包括相互连接的铁损测试仪主机及磁导计，磁导计的顶端设置有清洁机构，清洁机构包括固定盒、拉块及刷块，固定盒固接于磁导计上，拉块插设于固定盒中、能够在固定盒中上下移动，固定盒的内部底面上及拉块的底端上分别安装有刷块，铁损测试仪主机上还设有束线机构。本实用新型使得用户可在检测硅钢片前，对硅钢片两面沾染的灰尘污渍进行擦拭，避免灰尘污渍影响对硅钢片的测定结果，可方便地对刷块进行清洁更换，使得用户可方便地对电源线和导线进行收纳。

组织和织构是影响无取向硅钢性能的重要因素。为改善产品性能，研究了冷轧压下率（71.7%～87.0%）对高牌号无取向硅钢组织、织构、磁性能和力学性能的影响。结果表明，随冷轧压下率的增加，退火晶粒平均尺寸先减小后增大；高斯和立方织构强度减弱，γ纤维织构增强，α纤维织构转变为较强的α^*（{h, 1, 1}〈1/h, 1, 2〉）织构，并随冷轧压下率的增加而增强，同时其峰值逐渐向{111}面移动；工频铁损P_1.5/50、高频铁损P_1.0/400和磁极化强度J₅₀₀₀同时降低，屈服强度变化不大，表面硬度逐渐增加。当冷轧压下率由84.7%增至87.0%、厚度减至0.30 mm时，高频铁损降幅是工频铁损的11倍，表面硬度增幅变大。以上研究成果对硅钢减薄后织构及组织的优化提供了很好的指导。 Microstructure and texture are critical factors on non-oriented silicon steel properties. In order to improve product properties, this paper studied the effect of cold rolling reduction rate（71.7%-87.0%） on microstructure, texture, magnetic properties and mechanical properties of high-grade non-oriented silicon steel. The results show that with the increase of cold rolling reduction rate, the average size of annealing grain decreases first and then increases. The intensity of Goss and λ fiber te... 

本发明提供一种线状槽的形成图案，其兼得低装配系数化的效果和高磁通密度。在钢板的表面具有多个在横切该钢板的轧制方向的方向延伸的线状槽的方向性电磁钢板中，在上述线状槽相互间的上述钢板的表面形成从该表面凹陷的凹型缺陷，将上述钢板的上述凹型缺陷的体积分率相对于不存在该凹型缺陷的状态的钢板设为0.0025vol％～0.01vol％，以每1m2钢板为30个～200个的频率形成切断上述线状槽的上述延伸的中断部。

本申请提供一种电工钢及其制备方法，制备方法包括：将电工钢的板坯进行热轧获得钢卷；将热轧后的钢卷进行酸洗冷轧；将酸洗冷轧后的钢卷进行第一次罩式退火；将第一次罩式退火后的钢卷进行平整；将平整后的钢卷进行第二次罩式退火；将第二次罩式退火后的钢卷进行重卷，以获得电工钢。本申请提供的电工钢的制备方法采用两次罩式退火，退火的主要目的是消除酸洗冷轧工序产生的加工硬化，使钢板充分再结晶，获得理想的铁损及磁感应强度。而采用两次罩式退火，相对于一次罩式退火工序来说，能够进一步降低铁损，提高电工钢的磁性能。

【作者】 彭志华； ...

本发明涉及涂层液技术领域，且公开了取向硅钢绝缘涂层液，其配比为：二氧化硅10‑15%、硼酸5‑8%、磷酸二氢盐2‑5%、金属溶胶20‑25%、氢氧化铝占5‑6%、有机酸处理的复合盐溶液20‑30%、分散剂0.5‑1%，其余为水，采用硅溶胶作为辅助成膜物，粘结力较强，对附着性影响很大。硅溶胶能够很均匀地包裹在被胶结物质的表面，通过自干成膜，保持了很高的常温结合强度；而磷酸盐涂层的固化是通过受热分解，脱水聚合完成的，低温强度差，中温强度高，充分利用了硅溶胶低温的结合强度和磷酸盐中、高温时的结合性能，消除了常规涂层烘烤时容易出现的收缩、起泡现象，阻止了微气孔的形成，提高了涂层的表面光滑度，粘结强度和稳定性同时保持绝缘涂层的光泽、光滑和稳定性。

本实用新型实施例涉及一种硅钢片冲剪设备，该设备包括冲床、送料台、第一刀模、第二刀模和第三刀模；送料台用于传送待加工的硅钢条；第一刀模用于冲剪硅钢条以在硅钢条上形成预设形状的第一凹槽，第一凹槽处构成“工”字形硅钢片的一侧凹部；第二刀模用于冲剪硅钢条以在硅钢条上形成预设形状的第二凹槽，第二凹槽与所述第一凹槽相对应，第二凹槽处构成“工”字形硅钢片的另一侧凹部，第二刀模与硅钢条在硅钢条的横向方向上能够产生预设距离的相对位移；第三刀模用于沿硅钢条的横向方向剪断硅钢条。该设备能够采用硅钢片低成本、高效率地制造“工”字形硅钢片。

采用CVD法制备6.5%Si高硅钢,介绍了具体的制备工艺过程,研究了温度对渗硅速率和试样质量减轻的影响,同时分析了扩散时间对高硅钢中硅分布的影响。结果表明:在CVD反应过程中,反应温度高于1050℃将大大提高渗硅速率,但当温度大于1200℃后,渗硅速率趋于稳定;渗硅后,试样会减轻、减薄,随着温度升高,试样质量减轻的速率逐渐增大,在1200℃左右趋于稳定;扩散时间越长,硅分布越均匀,结合制备效率进行考虑,满足Δw表-中/b≤5的时间为适宜的扩散时间。 6.5%Si high silicon steel was manufactured by using CVD method and the process was introduced,the influence of temperature on the siliconizing rate and quality reducing rate,diffusion time on silicon distribution were investigated.Results as follows: the siliconizing rate will increase quickly when the temperature is higher than 1050 ℃,but the siliconizing rate will become steadily as the temperature up to 1200 ℃;The quality reducing rate will increase with the elevating of temperature and the r...