硅钢资料

本实用新型涉及硅钢生产设备技术领域，具体公开了硅钢用氧化镁冷涂托盘结构，包括机架和托盘本体，托盘本体固定在机架上，托盘本体位于涂层机上，所述涂层机包括一对上下设置且转动连接在机架上的胶辊，所述托盘内设有气管，所述气管一端固定在机架上，另一端水平设置在托盘本体靠近底部的位置，机架上设有连通气管的供气件。本专利中，通过对气管提供气流，从气管鼓出的气体对托盘本体内的涂层液形成搅拌的作用，避免涂层液中的氧化镁颗粒沉底结晶，本方案结构简单，无需对托盘本体进行其它加工改造，适合在结构紧凑的涂层机中使用。

针对新日铁公开的相关专利,总结日本高强度无取向电工钢的研究进展,分析了各专利化学成分、生产工艺及产品性能的特点,指出固溶强化、细晶强化、析出强化、位错强化都有可能被用来提高无取向电工钢的强度。在高强度无取向电工钢的研发过程中,需要根据其具体用途确定目标性能,再采用合适的强化手段,从而实现力学性能、磁性能和生产性能之间的平衡。 Authors summarize the research progress of high strength non-oriented electrical steel in Japan by learning related patents brought into the public by Nippon Steel. Authors also analyze the characteristics of the chemical composition, production technology and properties of products in the patents and point out that any ones of solution strengthening method, fine-grain strengthening method, precipitation strengthening method or dislocations strengthening method may be used to improve the strengt... 

本发明公开了一种含铝无取向硅钢中残余元素的控制方法。工艺流程包括KR脱硫‑转炉冶炼‑RH处理‑连铸。转炉控制合理的炉料结构，采用多渣吹炼，挡渣出钢。所用废钢中Ti、V、Nb等残余元素的质量分数之和≤0.005％，废钢和铁水的比例为0.2‑0.3。转炉吹炼终点炉渣成分中Ti、V、Nb等残余元素的氧化物含量之和为0.1‑0.5％，出钢后钢包顶渣厚度为50‑60mm；RH脱碳、脱氧、合金化后，净循环时间≤5min。通过本发明的实施，含铝无取向硅钢成品中Ti、V的含量≤0.002％，Nb含量≤0.001％，硅钢的磁性能显著提高。

【作者】 杨佳直； ...

本实用新型提出一种EI型硅钢片，所述EI型硅钢片呈长方形，其包括两个E形片和两个I形片，所述两个E形片开口相对且对称设置，所述两个I形片分别连接于两个E形片相接形成的两个空挡内，所述长方形的长度A为120mm，宽度B为88mm；其中，E形片的高度C为60mm，中间舌部宽度D为29.5mm，舌部高度E为44mm，其上两侧边柱宽度F为13.25mm；I形片宽度G为16mm，长度H为88mm。本实用新型采用两个E形片和两个I形片对称设置，在冲压时充分利用材料，不会造成多余废料，且其与现有EI90型硅钢片相比，其面积为EI90型硅钢片面积的97.78％，即硅钢材料重量也为EI90的97.78％，减少了硅钢用量。

介绍了普通取向硅钢(CGO)和高磁感取向硅钢(Hi-B)铸坯高温加热两次冷轧、一次冷轧和铸坯低温加热两次冷轧、一次冷轧法4种成熟生产工艺的主要技术参数,取向硅钢理论研究(Goss晶核和抑制剂)和生产技术现状。取向钢的发展趋势为:提高(110)[001]晶粒取向度,降低取向硅钢铁损,发展铸坯低温加热(≤1 300℃)和薄板坯连铸连轧流程生产取向硅钢工艺。 Main technology parameters of four developed process:cast bloom higher temperature heating-double cold rolling or single cold rolling,lower temperature heating-double cold rolling or single rolling process for production of common grain oriented silicon steel(CGO) and high magnetic induction grain oriented silicon steel(Hi-B),theory research on grain oriented steel(Goss nucleus and inhibitor) and present situation of process are summarized in this paper.The development trend of grain oriented si... 

本发明公开了一种硅钢片压装工装，其涉及电机生产技术领域。其技术方案要点包括下压板，所述下压板上设置有限位结构，所述限位结构用于在硅钢片压装过程中对硅钢片进行限位；所述限位结构包括能够转动调节的限位挡块，所述限位挡块包括多个分别用于对不同尺寸规格的硅钢片进行限位的限位面，且该多个所述限位面与限位挡块的转动轴线之间的最小距离均不相同。本发明能够适用于多种规格的硅钢片，而且操作方便，稳定性好。

本发明提供一种改善表面麻点缺陷的薄规格中低牌号无取向硅钢及其生产方法，成分C≤0.0025％，1.2≤Si≤1.65％，0.25％≤Mn≤0.35％，0.06％≤P≤0.11％，0.1％≤Als≤0.2％，S≤0.0025％、N≤0.0025％，Ti≤0.0025％，其余为Fe及不可避免的杂质。与现有技术相比，本发明采用较低氢气浓度，防止炉内氧化铁皮还原，减轻碳套辊的腐蚀程度，减少碳套辊结瘤率，改善带钢表面质量；采用合理合金成分设计，提高带钢的力学强度，降低碳套辊结瘤对带钢表面的影响程度，改善带钢表面质量。产品厚度为0.35mm，板面麻点发生率降低，无手感，且辊身周长周期范围内麻点个数≤5个。

采用磁控溅射方法,分别在纯Fe以及低硅钢基片上沉积富Si膜,并对其进行真空扩散热处理.通过能谱分析及X射线衍射研究了Si在纯Fe与低硅钢基体中的扩散特征,运用DICTRA软件建立了扩散模型.研究发现Si在纯Fe基体中扩散时发生γ-Fe(Si)→α-Fe(Si)相转变,扩散速率受控于相界面的迁移.当沿截面Si含量梯度不足以驱动相界面正向迁移时,延长扩散时间会发生相界面回迁现象,最终趋于单一相内均匀化扩散过程.Si在低硅钢基体中的扩散符合Fick扩散第二定律. Si-rich films were deposited on pure iron and low-Si steel substrates by direct current magnetron sputtering,and then were subjected to vacuum annealing.The distribution characteristics of Si across Fe and low-Si steel substrates were studied by energy spectrum analysis(EDS) and X-ray diffraction(XRD).DICTRA software was used to simulate the diffusion models.It is found that the diffusion behavior of Si in the Fe substrate is from γ-Fe(Si) phase to α-Fe(Si) phase and the rate of diffusion is con... 

本实用新型公开了一种变压器铁芯硅钢片纵剪缓冲保护装置，包括支撑立架、前挡横杆、后挡横杆、松弛检测组件和拉伸检测组件，所述支撑立架上在料带传送方向上间距设置有前挡横杆、后挡横杆，所述前挡横杆与后挡横杆均承托设置在料带的下方，所述前挡横杆与后挡横杆之间构成缓冲腔，所述缓冲腔内对应于料带的下方、上方分别设置有松弛检测组件、拉伸检测组件，所述松弛检测组件检测料带在松弛状态下的最低位置，所述拉伸检测组件检测料带在张紧状态下的最高位置，能够及时地对料带的松弛和拉伸程度进行监测，保证料带的缓冲安全。

【作者】 朱一知； 陈山； ...

该电磁钢板用涂布组合物含有环氧树脂、酚类固化剂(A)、以及从芳香族胺和双氰胺中选择的一种以上的胺类固化剂(B)，所述酚类固化剂(A)的含量相对于所述环氧树脂100质量份为1～40质量份，所述胺类固化剂(B)的含量相对于所述环氧树脂100质量份为0.5～5质量份。