钢厂
CN202121873446.7一种防护性能好的硅钢板带加工用卷曲设备
本实用新型公开了一种防护性能好的硅钢板带加工用卷曲设备,包括底座,所述底座的上表面固定连接有L型安装架,所述L型安装架的一侧固定设有第一电机,所述第一电机的输出端固定连接有第一转轴,所述第一转轴的外表面沿周向等间距设有多组可调卷绕机构,所述第一转轴的一侧设有驱动调节机构。本实用新型通过设置可调卷绕机构及驱动调节机构,硅钢板带卷绕完成后,第二电机带动主动齿轮转动,主动齿轮带动从动齿轮及第二转轴转动,从而两个移动块相互远离带动连杆转动,两个连杆转动带动弧形板向靠近第二转轴的方向移动,从而使弧形板脱离钢带卷的内圈,便于将钢带卷取下,防止工人用力操作过程中划伤。
CN202111524834.9非晶与硅钢卷绕机用恒张力一体式纠偏机构及控制方法
本发明公开了非晶与硅钢卷绕机用恒张力一体式纠偏机构,包括放卷结构和收卷结构,所述放卷结构和收卷结构间依次连接张力装置和纠偏装置,所述纠偏装置下方设置有纠偏张力控制系统;所述纠偏张力控制系统包括放卷张力程序模块、速度张力闭环反馈程序模块和纠偏定位程序模块;所述放卷张力程序模块与张力装置电信号连接;所述速度张力闭环反馈程序模块与放卷结构和收卷结构电信号连接;所述纠偏定位程序模块与纠偏装置电信号连接。通过集纠偏控制与张力控制于一体,并设置了纠偏张力控制系统,提高了卷绕精度,降低了设备制造成本,并有效解决了设备占用空间较大的问题。
CN202023259559.6一种硅钢清洗用张力刷辊结构
本实用新型涉及硅钢生产设备技术领域,具体公开了一种硅钢清洗用张力刷辊结构,包括中空的辊筒,辊筒两端固定有连接盘,连接盘上固定有转轴,辊筒的表面开设有若干排水槽,若干排水槽沿辊筒的周向等间距分布,辊筒的中部设有积水环槽,积水环槽内开设有连通辊筒内壁的进水孔,排水槽为倾斜设置,且排水槽的低端与积水环槽连通,连接盘上开设有排水孔。本专利中对硅钢带进行张紧时,完成清洗的硅钢带表面的水会沿着排水槽进入积水环槽,并从积水环槽进入到辊筒的内部,后排走,这样防止钢带上的水滞留在辊筒的表面,使得辊筒与钢带之间出现打滑的情况;另外多个排水槽的设置,还能够提高钢带与辊筒之间的贴附性,防止出现打滑的问题产生。
CN202180015362.6无取向性电磁钢板用热轧钢板、无取向性电磁钢板及其制造方法
本发明的一种方式的无取向性电磁钢板用热轧钢板,以质量%计含有:C:0.0050%以下、Si:0.5%以上3.5%以下、Mn:0.1%以上1.5%以下、Al:0.1%以上1.5%以下、Cu:0.01%以上0.10%以下、Sn:0.01%以上0.20%以下;剩余部分由Fe和杂质构成;在从表面到深度10μm的范围内,具有0.12%以上的Cu的浓度峰值。
电工钢生产中硫的控制
针对攀钢高硫铁水冶炼现状,结合不同生产工艺路线,论述了攀钢近年来为实现低硫电工钢的生产,在铁水预处理、转炉冶炼、钢水精炼过程中硫控制技术的开发与应用,形成了低硫洁净钢生产工艺技术,实现了低硫电工钢的生产。低硫电工钢RH脱硫率可达到20%左右,成品[S]控制在0.006%左右。 According to the smelting situations of hot metal with high sulphur content at Panzhihua Steel,combined with different produce processes,technologies for controlling the sulfur content during hot metal pretreatment,converter smelting,and second refining are developed. Technologies in low-sulfur clean steelmaking are formed. Low-sulfur electric steel are produced. As for the desulfurization rate of lowsulfur electric steel can reach about 20%,and the content of [S] in products is controlled to ab...
CN202121319771.9一种硅钢板冲裁余料处理工装
本实用新型涉及电机生产设备技术领域,特别涉及一种硅钢板冲裁余料处理工装,出料带通过支撑架平放在地面上,出料带的上方平行设置有安装在支撑架上的支撑砧板;支撑砧板的上方平行设置有上下滑动安装在支撑架上的刀架,刀架上设有切刀;支撑砧板的一端邻接有上料带,上料带将硅钢板冲裁余料送入到支撑砧板上。本实用新型的有益效果是:本实用新型可将成条的硅钢板冲裁余料进行自动裁切处理,裁切后的三角形的边角料会掉落到出料带中送出,此设备节省了大量的人力成本,提高了车间生产的安全性。
CN202122652888.5一种变压器硅钢片组装装置
一种变压器硅钢片组装装置,包括:底板,夹持机构,设于底板,组装组件,数量为一对,均设于夹持机构的两端,包括放置构件,放置构件设有推进机构;夹持机构用于变压器内壳的固定,组装组件用于硅钢片的叠装操作。本实用新型在进行变压器的加工时,方便进行变压器的叠装操作,提高了变压器叠装的效率,提高了变压器叠装的自动化程度,降低了操作人员的工作强度,具有较强的实用性。
ZnO对硅钢绝缘涂层组织与性能的影响
通过制备磷酸二氢铝硅钢涂层,研究了氧化锌对无铬涂层耐盐雾性能、电化学性能和附着性的影响。结果表明,硅钢表面涂层含有4.0%的氧化锌时,涂层具有最高的耐腐蚀性能和电化学性能,而且其致密表面最为平整,没有裂纹出现。 The effects of ZnO on the salt spray resistance property, electrochemical performance and adhesiveness of silicon steel insulating coating were studied. The results show that the best corrosion resistance and electrochemical properties can be obtained when the coating contains 4.0% oxide zinc, and the dense surface is smooth without cracks.
CN202180036699.5电磁钢板用涂布组合物、接合用表面被覆电磁钢板及层叠铁芯
该电磁钢板用涂布组合物是含有环氧树脂、高温固化型交联剂以及无机微粒的电磁钢板用涂布组合物,相对于所述环氧树脂的100质量份,所述高温固化型交联剂为5~30质量份,所述无机微粒是从金属氢氧化物、在25℃下与水反应而成为金属氢氧化物的金属氧化物、以及具有羟基的硅酸盐矿物中选择的一种以上,所述无机微粒的体积平均粒径为0.05~2.0μm,所述环氧树脂的含量相对于所述电磁钢板用涂布组合物的总质量为45质量%以上,所述无机微粒的含量相对于所述环氧树脂100质量份为1~100质量份。
CN202121007093.2一种电工钢加工用绝缘喷涂装置
本实用新型公开了一种电工钢加工用绝缘喷涂装置,包括底板,所述底板顶部外壁的中央位置设有安装通孔,所述安装通孔的两侧内壁上均通过轴承连接有转杆,所述底板的一侧外壁上固定连接有第一电机,第一电机输出轴的一端连接有连接杆,连接杆的一端固定连接在一个转杆的一端,两个所述转杆的一端固定连接有同一个放置架,所述放置架的两侧内壁上均固定连接有两个伸缩杆,四个所述伸缩杆活塞杆的外壁上均设有复位弹簧。本实用新型第二电机可以驱动每一个空心管转动的过程中,空心管内的绝缘漆从管壁的喷孔喷洒而出,而空心管外的扇板则配合交错分布的喷孔将雾化喷洒的绝缘漆打乱喷洒在电工钢上,全面且充分的完成喷涂。
CN202121910597.5硅钢冲压片质量筛查分拣装置
本实用新型涉及一种硅钢冲压片质量筛查分拣装置,包括:第一组传送带机构,第一摄像头,设置于第一组传送带机构的上方,用于对硅钢冲压片的第一表面的残损进行检测;第一机械手机构,设置于第一组传送带机构的上方且位于所述第一摄像头的后方;翻转装置,设置第一组传送带机构的后方,用于对第一组传送带机构传输的初检良品进行翻面并将翻面后的初检良品传输给第二组传送带机构;第二组传送带机构,设置于翻转装置的后方;第二摄像头,设置于第二组传送带机构的上方,用于对硅钢冲压片的第二表面的残损进行检测;第二机械手机构,设置于第二组传送带机构的上方且位于第二摄像头的后方。本实用新型可高效的检测每一个产品的外观质量。
温度及扩散时间对CVD法制备高硅钢的影响
采用CVD法制备6.5%Si高硅钢,介绍了具体的制备工艺过程,研究了温度对渗硅速率和试样质量减轻的影响,同时分析了扩散时间对高硅钢中硅分布的影响。结果表明:在CVD反应过程中,反应温度高于1050℃将大大提高渗硅速率,但当温度大于1200℃后,渗硅速率趋于稳定;渗硅后,试样会减轻、减薄,随着温度升高,试样质量减轻的速率逐渐增大,在1200℃左右趋于稳定;扩散时间越长,硅分布越均匀,结合制备效率进行考虑,满足Δw表-中/b≤5的时间为适宜的扩散时间。 6.5%Si high silicon steel was manufactured by using CVD method and the process was introduced,the influence of temperature on the siliconizing rate and quality reducing rate,diffusion time on silicon distribution were investigated.Results as follows: the siliconizing rate will increase quickly when the temperature is higher than 1050 ℃,but the siliconizing rate will become steadily as the temperature up to 1200 ℃;The quality reducing rate will increase with the elevating of temperature and the r...

