钢厂
CN202111108098.9一种取向硅钢实验室常化工艺方法
本发明公开了一种取向硅钢实验室常化工艺方法,采用两段式常化工艺,可以模拟现场常化生产,为现场批量生产提供有效的工艺参考,缩短现场调试工艺次数和废品率、次品率,降低制造成本。
获得抑制剂法生产低温高磁感取向硅钢的抑制剂控制研究进展
综述了国内外大钢铁企业与研究机构采用获得抑制剂法生产低温高磁感取向硅钢的开发及应用情况,分析了以该法生产高磁感取向硅钢过程中抑制剂的控制技术,包括固有抑制剂组成方案、气态渗氮方式与工艺及高温退火工艺的制定.研究表明,固有抑制剂组成方案的设计思路大体一致,化合物抑制剂以AlN为主、硫化物为辅,同时添加少量Sn,Sb等单元素抑制剂,但组成元素含量存在一定差别;在脱碳退火后用NH3进行非平衡渗氮处理已成为气态渗氮的主要方式,但最佳方式仍未明确,具体选择需依据实际生产条件,相应脱碳及渗氮工艺的控制条件差别较大;高温退火工艺中升温制度差别不大,升温阶段退火气氛中N2含量的选择存在差别.此外,分析了抑制剂控制技术目前存在的关键问题,并指出了进一步的研究方向. The current application and exploitation on production of low-temperature high magnetic induction grain-oriented silicon steel with acquired inhibitor method at both iron and steel enterprises and research institutions in the world are reviewed. The control techniques of inhibitors, which include the composition design for inherent inhibitors, nitriding method and process, and secondary recrystallization annealing, are thoroughly analyzed and proposed. It is indicated that the design ideas for i...
CN202110112524.X提高硅钢收卷速度的卷取系统
本发明涉及硅钢卷取领域,具体涉及提高硅钢收卷速度的卷取系统,包括机架、第一卷取辊、第二卷取辊、第三卷取辊和切捆机构,第一卷取辊、第二卷取辊和第三卷取辊依次转动设置于机架上;切捆机构包括切割刀、挤压板和成卷的胶带,切割刀竖直滑动设置于第一卷取辊和第二卷取辊的上方,切割刀上固定有两个支撑条,两个支撑条之间设置有支撑辊,成卷的胶带套设于支撑辊上,切割刀上还设有供胶带穿过的通槽;挤压板内设有装有墨水的盛墨腔,挤压板一侧的两端固定有排墨管,排墨管与盛墨腔连通,且排墨管与切割刀的侧壁转动连接。采用本技术方案时,有利于提高硅钢卷取效率。
低牌号无取向电工钢磁时效行为分析
选取了三种50W 800无取向电工钢,分析了化学成分、晶粒尺寸、织构、以及200℃时效处理48 h前后的磁性能和第二相粒子析出状态的变化。结果表明,钢板中第二相粒子的分布密度对钢板铁损有最重要的影响。降低钢中C、N元素含量,或改进钢板热加工参数以降低成品钢板中第二相粒子形成元素的过饱和度均有利于明显降低钢板磁时效过程中的铁损增幅。钢板中对磁性能有利的织构也有利于降低钢板铁损的时效幅度。 The evolution of chemical composition,grain size,texture,as well as magnetic property after aging treatment at 200 ℃ for 48 h and distribution of second phase particles precipitation in three selected 50W800 non-oriented electrical steels were analyzed.The results show that the distribution density of second phase particles has great influence on core loss.Reducing C and N content,or improving hot-working parameters to reduce the supersaturation of elements forming second phase particles in prod...
CN202023246581.7硅钢冷轧用厚壁套筒
本实用新型涉及硅钢生产设备技术领域,具体公开了硅钢冷轧用厚壁套筒,包括外筒和内筒,所述外筒与内筒之间固定有若干连接板,所述外筒上开设有插缝槽,所述外筒的内壁上设有靠近插缝槽设置的限位件,所述限位件包括锁止板和弹性件,弹性件一端固定在外筒的内壁上,另一端固定在锁止板的顶部,所述锁止板上设有朝向插缝槽的斜面。本专利中通过外筒与内筒设置,既提高了整个套筒的厚度,使其能够承受硅钢带卷绕时的压力,同时也减少因提高套筒厚度使得套筒的重量增加的问题,这样设置整个套筒的质量较轻。
CN202122238301.6一种硅钢片用叠压装置
本实用新型公开了一种硅钢片用叠压装置,包括机架,机架上设有工作平台,工作平台的顶面上沿轴向并排设有定位块和可远离或者靠近定位块的抵紧块,定位块的水平截面呈L状,且其与定位块之间形成叠压区,叠压区的上方水平设有可竖直移动的传动板,传动板上竖向滑动穿设有若干均匀分布的导杆,导杆的两端均伸出传动板,且顶端设有限位块,底端共同安装有水平设置的压板,导杆上套设有位于压板和传动板之间的弹簧,机架上还设有与传动板和抵紧块均相连的可编程控制器。本实用新型解决了如何能高效且保质地对硅钢片进行叠压的技术问题,具有工人劳动强度低、叠压效率高且叠压质量好等优点。
无取向硅钢C6厚涂层性能的影响因素
本文介绍了无取向硅钢C6涂液的性能,研究了配水量、固化程度和涂层厚度等因素对无取向硅钢C6涂层性能的影响。结果表明,随着配水量的增加,完全固化所需的时间增加,涂液固体含量降低,涂层厚度减小;随着固化程度的提高,涂层硬度先增大然后趋于恒定,而柔韧性逐渐变差,在过固化后急剧恶化;涂层厚度对涂层的表面外观、附着性和绝缘层间电阻均有显著影响。 Based on the introduction about the performance of C6 varnish for non-oriented silicon steel sheets,effects of water amount,curing degree and coating thickness are discussed. Results show that with the increase of water amount,the time required to cure completely extends,and both the solid content of C6 varnish and the coating thickness decrease. As the curing degree increases,the hardness of the coating increases first and then tends to be constant,however the flexibility degenerates,especially...
CN202121906733.3一种硅钢片检测装置
本实用新型涉及变压器材料检测技术领域,具体为一种硅钢片检测装置,包括材料检测装置主体,材料检测装置主体包括相互连接的铁损测试仪主机及磁导计,磁导计的顶端设置有清洁机构,清洁机构包括固定盒、拉块及刷块,固定盒固接于磁导计上,拉块插设于固定盒中、能够在固定盒中上下移动,固定盒的内部底面上及拉块的底端上分别安装有刷块,铁损测试仪主机上还设有束线机构。本实用新型使得用户可在检测硅钢片前,对硅钢片两面沾染的灰尘污渍进行擦拭,避免灰尘污渍影响对硅钢片的测定结果,可方便地对刷块进行清洁更换,使得用户可方便地对电源线和导线进行收纳。
CN202121016000.2一种冷轧取向硅钢带整平装置
本实用新型公开了一种冷轧取向硅钢带整平装置,包括两个上下对称分布的保护罩,所述保护罩的内部均转动连接有展平辊,且展平辊的一端均延伸至保护罩的外部,所述保护罩的外壁设置有传动罩,且传动罩的外壁设置有动力箱,所述动力箱与展平辊传动连接,上下两个所述展平辊之间设置有其,特征在于,所述保护罩的两侧外壁均固定连接有支撑架,且支撑架的一侧外壁均设置有延展机构,两个所述延展机构之间设置有连接架,且连接架的一侧外壁设置有吸水布,所述吸水布的内部设置有胶板。本实用新型吸水布与硅钢带本体的外壁滑动接触,以此将展平时涂抹在硅钢带本体表面的水溶性润滑剂刮抹掉,减少硅钢带本体表面上的水分。
电感耦合等离子体质谱法测定硅钢中痕量铜和镍
研究了应用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定硅钢中痕量铜和镍的分析方法。采用硝酸分解样品,通过内标校正和基体匹配消除了基体干扰的影响,同时根据测量时存在的质谱干扰情况,选择同位素65Cu和60Ni作为测定元素和通过调节仪器参数使双电荷离子的产率最低,以减少带来的干扰。该方法用于硅钢中痕量铜和镍的测定,所得的结果与ICP-AES法测定结果完全吻合,各元素测定结果的RSD值小于5%,加标回收率为97.3%~100.3%。 A method for the determination trace copper and nickel in silicon steel by inductively coupled plasma mass spectrometry(ICP-MS) was studied.The samples were dissolved in HNO3.The effect of matrix interference was eliminated by internal standard correction and matrix matching.Meanwhile,according to the mass spectral interferences in determination,the isotopes including 65Cu and 60Ni were used as measuring elements.The yield of double-charge ions were minimized by adjusting instrumental parameters...

