钢厂
CN202111220995.9一种冷轧取向硅钢EBSD用样品电解抛光制样方法
本发明公开了一种冷轧取向硅钢EBSD用样品电解抛光制样方法,包括:S1.机械抛光,切取10mm*10mm规格试样用超声仪清洗,在不同粒度的砂纸上预磨后在金相试样抛光机上抛光至镜面;S2.电解抛光,利用struerslectropol‑5型电解抛光机对机械抛光好的试样进行电解抛光;S3.EBSD检测。本发明主要解决现有设备技术条件下如何得到高质量的EBSD检测技术样品的问题,适用于大批量冷轧取向硅钢的EBSD样品制备,发明本方法后实验过程简单快捷,节约了实验时间和成本。
CN202110093429.X一种高性能取向硅钢冷轧工艺
本发明涉及一种高性能取向硅钢冷轧工艺,具体涉及取向硅钢制造技术领域。本发明的冷轧工艺包括一次冷轧和二次冷轧,其中,取向硅钢热轧板厚度在2.0~3.0mm,一次冷轧轧制采用4或5道次轧制,轧至厚度0.60~0.62mm,轧制温度为100℃~105℃;二次冷轧轧制采用2道次,轧至厚度0.24~0.26mm,轧制温度为95℃~100℃。本发明通过对一次冷轧和二次冷轧中各道次的压下率、轧制张力、轧制速度、轧制温度进行优化设计,从而能够进一步优化织构,确保二次冷轧板高斯织构含量在0.8~1.5%,且轧制稳定性高,进而有效保证了所得取向硅钢的磁性能。
硅钢DR510生产工艺优化
本文对某厂硅钢DR510温度、成分及过程控制水平和成品的组织、力学性能进行了研究,并在此基础上提出了工艺优化方案,有一定的借鉴和推广价值。 In this paper,the critical process and the products quality,including temperature,composition and process controlling level,the organization and mechanical properties of the finished product,were studied.On the basis of that the optimized technical plan provided,and this control technology is worth using and spreading.
CN202111652218.1一种高硅钢材料及其制备方法
一种高硅钢材料的制备方法,步骤包括靶材、金属基材表面清理;排除密闭容器内空气、通保护气;双辉光等离子预轰击靶材和基材,净化表面;等离子溅射、加热、保温;缓慢冷却取出。预轰击靶材、基材,去除表面吸附层、活化基材,交替升高基材电压、靶材电压,使靶材中的合金元素被离子轰击而溅射出来、扩散进入基材内部形成表面高硅钢层。“双辉光等离子表面冶金技术”制备高硅钢的工艺简单易行、可控性高、成本低、无污染且基体和表面的结合力高,适合大规模产业化生产;更重要的是该方法采用交替离子轰击、扩渗速度快,结合强度高,得到硅含量均匀分布或呈梯度分布的高硅钢材料,为制备更高品质的无噪音、低铁损的高硅钢产业化奠定基础。
CN202080095882.8双取向电工钢板及其制造方法
根据本发明的一个实施例的双取向电工钢板,以重量%计,所述钢板包含Si:2.0至4.0%、Al:0.01至0.04%、S:0.0004至0.02%、Mn:0.05至0.3%、N:0.01%以下且0%除外、C:0.005%以下且0%除外、P:0.005至0.15%、Ti:0.001至0.005%、Ca:0.0001至0.005%和Mg:0.0001至0.005%,余量包含Fe和其他不可避免的杂质,具有从{100}<001>起15°以内的取向的晶粒的面积分数为60至99%,具有从{100}<025>起15°以内的取向的晶粒的面积分数为1至30%。
CN202110217690.6一种焊接压力容器用碳锰硅钢钢板及其生产方法
本发明一种焊接压力容器用碳锰硅钢钢板及其生产方法,钢板化学成分及其重量百分含量为:C:0.18‑0.26%,Si:0.18‑0.65%,Mn:0.92‑1.72%,P≤0.008%,S≤0.002%,Cu:0.30‑0.40%,Ni:0.25‑0.35%,Cr:0.25‑0.35%,Mo≤0.10%,V≤0.10%,B:0.003‑0.005%,余量为Fe及不可避免的杂质元素。本发明钢板中加入的贵合金元素含量相对较少,冶炼成本及后续的生产成本控制较低,市场潜力和竞争力很大。
CN202111393833.5一种耐热型极低损耗取向硅钢及其制备方法
本发明提供的一种耐热型低损耗取向硅钢,取向硅钢的单面采用激光刻痕形成平行线状沟槽;所述激光刻痕为取向硅钢制备工艺中的渗氮步骤之后和在涂覆MgO涂层步骤之前实施;在渗氮步骤之后和在涂覆MgO涂层步骤之前进行激光刻痕加工不会破坏高温退火后形成的硅酸镁底层,底层完整性好,刻痕形成的沟槽位于取向硅钢带材金属基体表面,在高温退火过程中沟槽内直接反应生成硅酸镁底层,最终取向硅钢带材表面涂覆张应力涂层后光滑、平整、无凹凸,取向硅钢带材损耗低、叠片系数高、耐热,成品取向硅钢带材既可用于制备立体卷铁心变压器也可用于制备叠片铁心变压器。
CN202110086102.X一种高硅钢及其制备方法
本发明提供了一种高硅钢及其制备方法,所述高硅钢由如下质量分数的化学成分组成:Si:5.0‑7.0%,Ni:0.001‑0.05%,Ce:0.0001‑0.0002%,其余为Fe和不可避免的杂质。本发明提供的高硅钢的延伸率为15‑22%,抗拉强度为739‑824MPa,磁感应强度B8为1.26‑1.29T,铁损P2/10k=68‑80W/kg,矫顽力为10.6‑13.4/m,最大磁导率为19000‑25000,具有良好的磁性能和延伸性能,易加工且可大规模生产应用。
低温高磁感取向硅钢高温退火过程织构及析出物的演变行为
对低温法生产的以AlN为主抑制剂的Hi-B取向硅钢高温退火过程进行了中断实验,借助EBSD及TEM技术对高温退火连续升温过程中织构与析出物的演变进行了研究。实验结果表明,800℃时ODF图出现高斯织构组分,但强度很弱,高斯晶粒偏离角在10°以上;950~1 000℃时高斯晶粒异常长大,偏离角3~6°;高温退火过程析出物主要有球形、规则立方形及不规则多面体形3种形貌,由于渗N的影响,Zener因子先增大再减小,并且析出物在高斯晶界前沿优先粗化。 The annealing process at high temperature of Hi-B silicon steel using low slab reheat temperature and with AlN as the inhibitor has been studied by interrupting test,and the evolution of texture and precipitates during continuous heating-up in the annealing process at high temperature was analyzed by EBSD and TEM. The results showed that Goss texture appears in ODF at 800 ℃,but the intensity of Goss texture was very weak and the deviation angle was more than10°. Goss grains grow abnormally durin...
CN202110384531.5一种电力变压器取向硅钢片自动化加工系统
本发明涉及一种电力变压器取向硅钢片自动化加工系统,包括支撑台、支撑板、传动机构、堆叠机构和调整机构,所述的支撑台上端左右两侧对称设置有支撑板,支撑板相对面设置有传动机构,支撑台上端中部设置有堆叠机构,支撑台上端面上且位于堆叠机构左右两侧对称设置有调整机构;本发明能解决以下问题:本发明通过传动机构对硅钢片前后移动,通过推动支链对硅钢片移位、放置、拿取,增加对硅钢片进行自动化堆叠效果;通过调整机构对硅钢片X方向面和Y方向面进行感应式自动调整;通过堆叠机构对硅钢片二次调整,避免硅钢片发生移动,从而使硅钢片堆叠的更加整齐,并且节约制造成本。

