硅钢资料

本发明涉及一种永磁电机铁芯电工钢材料优化匹配方法及系统，涉及电机技术领域，包括根据永磁电机的应用场合，确定设计指标和永磁电机模型，并根据永磁电机模型确定电机性能；判断永磁电机的电机性能是否符合设计指标，若是确定第一集合、第二集合以及第三集合的交集；该交集的元素为永磁电机的电机性能满足第一指标、第二指标以及第三指标时对应的硅钢材料。本发明综合考虑了电机的电磁场、温度场、应力场性能，可以在多种电工钢材料中选出与该种转子结构匹配度最高的电工钢材料。

本实用新型公开了一种硅钢片横剪线裁切设备，包括：本体，所述本体包括工作台、挡屑罩和裁切装置，所述挡屑罩内水平固定安装有横杆，所述裁切装置与横杆下表面滑动连接；两个定位机构，所述定位机构包括第一螺纹杆、第一滑块和压板，所述挡屑罩内壁开设有两个安装槽，两根所述第一螺纹杆分别转动安装在两个安装槽内，两个所述第一滑块分别螺纹套设在两根第一螺纹杆上，两个所述压板分别与两个第一滑块远离安装槽槽底的一端水平固定链接；两个驱动机构，所述驱动机构用于控制第一螺纹杆发生转动。通过驱动装置控制定位机构中压板在垂直方向上的位置便可快速实现对硅钢片的定位工作和解除工作，方便快捷，提高了裁切工作的效率。

本申请提供了一种提高高磁感取向硅钢渗氮效率的方法，属于高磁感取向硅钢渗氮处理技术领域，包括所述高磁感取向硅钢按重量百分比包括：Si：2.8～3.4％、C：0.040～0.070％、Als：0.015～0.045％、Mn：0.06～0.14％、S：0.003～0.020％、N：0.003～0.010％、Cu：0.01～0.025％、Sn：0.03％～0.07％、Cr及Ni，Cr和Ni的总含量小于0.5％，其余为Fe和不可避免杂质物，其特征在于，控制脱碳退火后钢带表层氧化物中铁系氧化物的比例，该装置能够增加脱碳退火后钢带表面氧化层中铁系氧化物占整个氧化层重量的比例，从而在获得同等渗氮量的情况下实现了快速渗氮，缩短渗氮时间，提高渗氮效率。

本实用新型涉及硅钢生产设备技术领域，具体公开了一种硅钢清洗用多段式清洗辊结构，包括中间辊和可拆卸连接在中间辊两端的支撑辊，所述中间辊和支撑辊的外径相等，中间辊与支撑辊的外壁上均固定有刷毛，所述支撑辊远离中间辊的端部为封闭设置，且同轴固定有转轴。采用本专利中的清洗辊结构，只用更换中间辊即可，无需对整个清洗辊进行更换，节省了设备成本投入；另外将支撑辊远离中间辊的端部为封闭设置，则是为了防止在工作时，液体渗入，避免对清洗辊的内部结构产生腐蚀等问题。

本发明涉及硅钢片叠片领域，具体涉及一种硅钢片自动叠片设备，包括滑移架、安装座和若干个单层碟片机，每个单层碟片机均包括码放架、横向拉移机构、下压机构、两个同步拉进机构、双层同步下压机构、传动连接器、第二弹性安装座、三个第一弹性安装座和五个电磁铁，通过双层同步下压机构，通过传动板能够与传动连接器之间自动分离，避免使用驱动源进行分离，降低了设备成本，通过传动连接器带动传动管进行移动，减少使用驱动源，降低设备的成本，传动连接器进行下降时也将带动传动管进行下降，使得中部硅钢片、两个纵向硅钢片和横向硅钢片之间进行同时下降，增加了工人的观察时间，减少出现硅钢片偏移的风险。

本实用新型公开了一种带缓冲保护装置的硅钢片纵剪线，包括工作台，工作台的顶部外壁设置有放料辊，工作台靠近放料辊的一侧设置有牵引辊，工作台靠近牵引辊的一侧设置有整平机构，工作台的内部设置有第一缓冲坑，第一缓冲坑的顶部设置有导料辊，第一缓冲坑的内部设置有第三转轴，第三转轴的外壁传动连接有皮带，皮带的内壁传动连接有第二转轴，皮带的外壁传动连接有第一转轴，第三转轴的外壁固定安装有转筒，转筒的外壁设置有伸缩杆，伸缩杆的外壁套接有弹簧，伸缩杆的底部设置有滚珠，通过设置的第一缓冲坑与第二缓冲坑结构，可防止硅钢片在进入第一缓冲坑与第二缓冲坑时弯曲程度过大导致的断裂，且双重的缓冲装置更有利于对硅钢片的保护。

本发明涉及码垛装置技术领域，且公开了一种电机硅钢片加工用码垛装置，包括底板，所述底板的顶面活动连接有夹板，所述底板的顶面固定安装有固定板，所述固定板的中部活动连接有螺纹杆，所述螺纹杆的表面固定安装有齿轮一，所述底板的顶面固定安装有固定轴，所述固定轴的顶端活动连接有齿圈。该电机硅钢片加工用码垛装置，齿圈在旋转时带动啮合齿旋转，通过啮合齿与齿轮一的啮合带动齿轮一转动，齿轮一在转动时通过与夹板底端的啮合，可以带动三个夹板同时移动，从而可以改变三个夹板之间的面积值，从而实现装置可以对不同规格的硅钢片进行码垛，操作简单，降低了操作人员的劳动强度。

1.本外观设计产品的名称：硬质合金刀（硅钢片刃切剪用）。;2.本外观设计产品的用途：用于硅钢片刃的剪切。;3.本外观设计产品的设计要点：在于其整体形状。;4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。;5.使用时为安装面，故不常见，省略后视图。;

一种高硅钢材料的制备方法，步骤包括靶材、金属基材表面清理；排除密闭容器内空气、通保护气；双辉光等离子预轰击靶材和基材，净化表面；等离子溅射、加热、保温；缓慢冷却取出。预轰击靶材、基材，去除表面吸附层、活化基材，交替升高基材电压、靶材电压，使靶材中的合金元素被离子轰击而溅射出来、扩散进入基材内部形成表面高硅钢层。“双辉光等离子表面冶金技术”制备高硅钢的工艺简单易行、可控性高、成本低、无污染且基体和表面的结合力高，适合大规模产业化生产；更重要的是该方法采用交替离子轰击、扩渗速度快，结合强度高，得到硅含量均匀分布或呈梯度分布的高硅钢材料，为制备更高品质的无噪音、低铁损的高硅钢产业化奠定基础。

本发明揭示了一种高牌号无取向硅钢及其生产方法，生产方法包括冶炼、连铸、热轧、酸洗、切边、常化、冷轧，冶炼最终所得钢水化学成分以质量百分比计为：C≤0.005％、Si≥2.8％、Als0.5～1.2％、Mn0.25～0.8％、P≤0.02％、S≤0.0040％、N≤0.0020％、Nb≤0.0020％、V≤0.0020％、Ti≤0.0020％，其余为Fe以及不可避免的杂质；切边工序对热轧卷板的两侧进行切边，单侧的剪切宽度为10～20mm；常化在罩式退火炉中进行，均热温度为T＝{(990～1010)‑100×[30×(Si)+20×(Al)]}℃，(Si)为Si的质量百分比，(Al)为Al的质量百分比，均热时间为6h，之后冷却；钢卷在罩式退火炉中冷却至预设温度T0时取出送至冷轧线冷轧，T0为120～180℃，第一道次轧制时的轧制力恒定且轧制力为11000～12000kN。本发明可避免高牌号无取向硅钢在冷轧过程中由于脆性高而导致的频繁断带。

本发明公开一种表面状态良好的无取向电工钢板，其含有Fe和不可避免的杂质，其还含有质量百分含量如下的下述各化学元素：0＜C≤0.005％，Si：1.0～2.0％，Mn：0.2～1.0％，Al：0.2～1.0％，Ca：0.0003～0.010％，Sb：0.005～0.2％，其中Si+Al：1.4～2.6％。此外，本发明还公开了一种上述的无取向电工钢板的制造方法，其包括步骤：(1)冶炼；(2)铸造：控制连铸坯在连铸机出口位置处的表面温度≥780℃，以使得连铸坯在其厚度方向上与宽度方向上的晶粒尺寸之比为2.5～6.0；(3)热轧：在热轧粗轧结束之后，控制中间坯头尾温度之差≤25℃；(4)冷轧；(5)连续退火。该表面状态良好的无取向电工钢板无瓦楞缺陷，其具有较低的铁损以及优良的磁感，其具有十分良好的推广前景和应用价值。

本发明公开了一种普通级稀土取向硅钢制备方法，通过添加稀土元素，利用第二相作用，对铸坯组织、热轧组织、初次再结晶晶粒和二次再结晶晶粒的影响，改善成品磁性能，即降低铁损，提高磁感。