硅钢资料

本实用新型涉及硅钢技术领域，尤其为一种用于硅钢绝缘涂料生产用储存装置，包括储存装置、顶盖和定位板，所述储存装置与顶盖铰链连接，所述顶盖内侧后端固定连接有定位块，所述定位块前端转动连接有连接块，所述连接块的另一端内侧转动连接有转动杆，通过设置的定位块、连接块、转动块、转动杆、推杆、档杆、挡块、弹簧、固定板和垫片，在使用时，盖上顶盖后，通过推动推杆，使推杆通过转动块带动转动杆在连接块内转动，推杆推动挡块，使挡块通过档杆挤压弹簧，从而对推杆进行限位，然后带动连接块在定位块上转动，从而使连接块挤压固定板，使固定板带动垫片，使垫片与储存装置贴合更紧，防止漏气，防止空气进去，防止涂料干燥。

绝缘涂层可以有效提高硅钢片的耐蚀、耐腐、磁、绝缘等性能，因此取向硅钢涂装绝缘涂层是取向硅钢生产过程中重要的一环。本文对取向硅钢含铬无机绝缘涂层以及氮化铬涂层的性能优缺点进行了介绍，并对国内无机含铬取向硅钢绝缘涂层及氮化铬涂层的研究现状进行了综述。最后对未来含铬无机绝缘涂层的研发方向进行了展望。 Insulation coating can effectively improve the corrosion resistance of silicon steel sheet, such as corrosion, magnetic, insulation performance, thus oriented silicon steel insulation coating is the important part of oriented silicon steel production process. In this paper, the inorganic insulation coating oriented silicon steel containing chromium and chromium nitride coating performance advantages and disadvantages are introduced.In addition, the research status of insulation coating and chrom... 

本实用新型涉及一种取向硅钢氧化镁线涂层装置，尤其涉及一种取向硅钢氧化镁涂层线用冷涂辊，具有涂层辊本体及包覆在涂层辊本体外层的橡胶涂层；涂层辊本体内部为空腔结构，空腔结构内通有循环冷冻液。本实用新型涂层辊内部设计成空腔结构，并通过循环冷冻液对涂层辊进行冷却降温，既可以达到通过涂层辊对氧化镁进行降温的目的，从而满足工艺要求，防止质量缺陷的产生，还可延缓涂层辊因反复摩擦生热造成橡胶层老化，从而延缓涂层辊使用寿命。

采用EBSD技术研究了有、无拉应力作用下无取向硅钢在晶粒长大过程中织构转变及晶界变化的规律。结果表明:在晶粒生长期间,无应力作用下的硅钢中,{111}〈112〉,{111}〈110〉织构组分强化,而{100}〈001〉织构组分弱化;与无拉应力作用下的情况相比,施加5MPa的拉应力时,{111}〈112〉,{111}〈110〉织构组分强化的速率下降,{100}〈001〉织构组分变化不明显。对于在晶粒生长期间持续变化的{111}〈112〉,{111}〈110〉和{100}〈001〉织构组分而言,虽然有、无拉应力作用下硅钢的{111}〈112〉和{111}〈110〉织构组分的高取向差角度晶界频率均下降,而{100}〈001〉织构组分的高取向差角度晶界频率则上升,但当有拉应力作用后,{111}〈112〉和{111}〈110〉织构组分的高取向差角度晶界频率下降的速率变小,{100}〈001〉织构组分的高取向差角度晶界频率上升的速率稍有变小。通过对无取向硅钢在晶粒长大过程中织构转变及晶界变化规律的研究,分析了合金原子在晶界的偏聚行为。 The rules of texture and grain boundary transformation in the nonoriented silicon steel under applied stress or without applied stress during grain growth were investigated by EBSD.The results show that the {111}〈112〉 and {111}〈110〉 components in the nonoriented silicon steel without stress are strengthened during grain growth whereas {100}〈001〉 component is weakened,but the growth rate of {111}〈112〉 and {111}〈110〉 component decreases,while the area fraction of {100}〈001〉 component doesn’t chang... 

国元证券发布深度研究报告《变压器行业深度研究报告-海外变压器供需错配-国产厂商...

本发明的取向性电磁钢板的制造方法能够稳定地制造被膜特性和磁特性优异的取向性电磁钢板。其包括：对含有规定的添加元素的钢坯进行热轧；冷轧制成最终板厚；进行脱碳退火；涂布以MgO为主剂的退火分离剂；进行最终退火，其中，上述退火分离剂的主剂的BET比表面积比率H2O/N2为0.6～1.6且浆料状态下粒径40μm以上的粒子的比例为5质量％以下。

采用取向分布函数和取向线分析方法对低温板坯加热取向硅钢从热轧到初次再结晶工艺阶段的织构进行了研究。研究表明:一次冷轧后各层的织构组分与热轧板各层面的织构组分存在着继承关系,次表层存在很强的{001}<110>织构,中心层的织构和热轧板的中心层相似,存在强的{001}<110>和{112}<110>织构;中间退火后发生再结晶,各织构组分的强度有所减弱,Goss织构组分再次出现;二次冷轧后沿厚度方向上的织构不均匀性不明显,{111}<112>织构强度最高,几乎是其他织构组分的1倍,{001}<110>织构大幅降低;初次再结晶后织构沿厚度方向没有明显的不均匀性,{111}<110>为最强的织构组分,并且具有一定强度的Goss位向。 The texture from the first cold rolling to the primary recrystallization of low temperature slab reheating grain-oriented electrical steel were researched by orientation distribution function and orientation distribution intensity technique.The results show that after the first stage of cold rolling,there is a strong {001}<110> texture in the subsurface and the texture in center layer is very similar to the center layer of hot band which has strong {001}<110> and {112}<110> tex... 

本发明公开一种高牌号无取向硅钢的轧制方法，用于控制森基米尔二十辊轧机对原料带钢进行轧制，所述方法包括：根据所述原料带钢的规格参数，确定所述森基米尔二十辊轧机的第一中间辊的辊型及第二中间辊的辊型；根据所述原料带钢的合金含量及所述规格参数，确定所述第一中间辊的有效平面量；根据所述规格参数，确定所述森基米尔二十辊轧机的径向调整机构的凸度值；根据所述合金含量，设定所述森基米尔二十辊轧机进行轧制时的负荷分配和张力；按照所设定的负荷分配和张力分配对所述原料带钢进行轧制，且在轧制过程中以预设乳化液流量进行喷淋，以制得成品。本发明可减少高牌号无取向硅钢在轧制过程中发生脆性断裂，提高轧制的稳定性及生产效率。

此无取向性电磁钢板具有预定的化学组成，所述化学组成满足(2×[Mn]+2.5×[Ni]+[Cu])－([Si]+2×[sol.Al]+4×[P])≧1.50％，以SEM－EBSD测定距表面1/2板厚深度的与轧制面平行的面时，将{hkl}＜uvw＞取向的晶粒相对于全部视野的面积率记为Ahkl－uvw时，A411－011在15.0％以上，且平均晶体粒径为50μm～150μm。

本发明提供了一种高硅钢及其制备方法，所述高硅钢由如下质量分数的化学成分组成：Si：5.0‑7.0％，Ni：0.001‑0.05％，Ce：0.0001‑0.0002％，其余为Fe和不可避免的杂质。本发明提供的高硅钢的延伸率为15‑22％，抗拉强度为739‑824MPa，磁感应强度B8为1.26‑1.29T，铁损P2/10k＝68‑80W/kg，矫顽力为10.6‑13.4/m，最大磁导率为19000‑25000，具有良好的磁性能和延伸性能，易加工且可大规模生产应用。

本发明属于钢铁冶炼技术领域，涉及一种超低铝极低硫无取向硅钢的冶炼方法，包括如下步骤：KR铁水预处理→BOF复吹转炉冶炼→RH真空炉精炼→LF精炼→连铸；采用本发明中的冶炼方法，铁水脱后硫可以适当放宽，转炉出钢温度可以适当降低，RH工序无需采用OB法升温，也无需RH顶枪喷粉或者加入合成渣脱硫，LF只需实现微调成分、调节温度、平衡炉机节奏以及适当脱硫。此种冶炼方法充分利用并发挥了各工序优势，避免了在某一工序完成所有冶炼任务，一旦发生事故，容易造成生产中断，产品质量难以保证。

采用磁控溅射方法,分别在纯Fe以及低硅钢基片上沉积富Si膜,并对其进行真空扩散热处理.通过能谱分析及X射线衍射研究了Si在纯Fe与低硅钢基体中的扩散特征,运用DICTRA软件建立了扩散模型.研究发现Si在纯Fe基体中扩散时发生γ-Fe(Si)→α-Fe(Si)相转变,扩散速率受控于相界面的迁移.当沿截面Si含量梯度不足以驱动相界面正向迁移时,延长扩散时间会发生相界面回迁现象,最终趋于单一相内均匀化扩散过程.Si在低硅钢基体中的扩散符合Fick扩散第二定律. Si-rich films were deposited on pure iron and low-Si steel substrates by direct current magnetron sputtering,and then were subjected to vacuum annealing.The distribution characteristics of Si across Fe and low-Si steel substrates were studied by energy spectrum analysis(EDS) and X-ray diffraction(XRD).DICTRA software was used to simulate the diffusion models.It is found that the diffusion behavior of Si in the Fe substrate is from γ-Fe(Si) phase to α-Fe(Si) phase and the rate of diffusion is con...