硅钢资料

本发明涉及电机技术领域，具体涉及一种具有低应力隔磁桥的硅钢片和电机转子。包括硅钢片、开设在硅钢片上的若干个磁钢槽组和永磁体，若干个磁钢槽组沿所述硅钢片周向分布，每个磁钢槽组均至少包括一对沿径向对称分布的磁钢槽，永磁体嵌设于磁钢槽内，磁钢槽朝向硅钢片内侧的一端设有空腔，一对磁钢槽的空腔之间通过隔磁桥隔离，隔磁桥的空腔上壁面与空腔侧壁面之间通过第一椭圆弧过渡连接，隔磁桥的空腔下壁面与空腔侧壁面之间通过第二椭圆弧过渡连接。有效降低该处隔磁桥在拐角处所受应力，进而提高该隔磁桥的强度，避免磁钢和铁芯产生形变而断裂。

本申请提供了一种取向硅钢铸坯的制备方法及铸坯系统，该制备方法用于对精炼后的钢水进行连铸处理，所述连铸处理包括以下步骤：进行凝固处理，以使所述精炼后的部分钢水凝固形成坯壳；凝固处理时，进行电磁搅拌，以使所述精炼后的剩余钢水最终形成铸坯，其中，所述电磁搅拌的位置和结晶器出口的间距为0.3～1.5m，所述电磁搅拌的电流范围为0A～900A。上述制备方法通过调节电磁搅拌的位置和电流大小来调节电磁搅拌的强度，进而通过电磁搅拌的强度来调节等轴晶的生成量，扩大等轴晶率的范围。

一种通过粉末烧结制备高磁性能含磷硅钢薄片的方法，属于粉末冶金技术领域。本发明通过真空熔炼气雾化制备成分范围为Fe‑(3‑6.5)wt.％Si‑(0.05‑1)wt.％P的合金粉，将其放置在陶瓷坩埚中均匀振实并放置重物压住，随后进行高温烧结使其冶金结合，再经热轧、冷轧、退火等处理后，得到具有优异性能的含磷硅钢薄片。本发明在硅钢材料体系中加入P元素，能够有效降低铁损、优化磁性能并促进活化烧结；采用气雾化粉末能够很好地保证产品的少夹杂和纯净度；在低熔点P元素及粉末压烧的协同作用下解决了球形气雾化粉末难以成形的缺陷，并避免了需添加成形剂导致的工艺复杂性及后续的脱胶残碳问题，有效缩短制备工艺流程，具有操作简单、生产效率高、工艺流程短、性能优异等优点。

适用范围 本标准规定了700 MW及以上级大电机用冷轧无取向电工钢带的术语和...

对取向硅钢在不同气氛下的高温退火工艺进行实验室模拟，利用X射线衍射仪（XRD）分析了硅钢退火至900℃和1170℃时的样品表面氧化层和底层的物相组成，采用场发射扫描电镜（SEM）观察了样品表面氧化层和底层在截面方向上的微观形貌特征，并计算了高温退火一次升温阶段氧化反应的吉布斯自由能以及900℃时退火气氛的氧分压。结果表明：当退火气氛的露点温度保持一定时，较高的氢气含量有利于生成完整连续的底层；当退火气氛的水氢分压比保持一定时，在露点温度与氢气含量两者较低的条件下，底层附着性不佳易脱落，较高条件下，底层中夹杂着较多的铁单质；当氧化层中无FeO时，底层完整连续但易脱落，当FeO层较薄时，底层下方存在部分未反应的SiO₂,当FeO层较厚时，底层不完整连续且有分层。 The high temperature annealing process of grain-oriented silicon steel in different atmospheres was simulated in the laboratory. X-ray diffractometer（XRD） was used to analyze the phase compositions of the surface oxide layer and forsterite film of the silicon steel annealed to 900 ℃ and 1170 ℃. Field-emission scanning electron microscopy（SEM） was used to observe the micro morphology characteristics of the surface oxide layer and forsterite film of the samples in the cross section direction. The ... 

本实用新型公开了一种铁芯硅钢片卷材的自动放卷上料装置，包括放卷机、导向平台和防折组件，所述导向平台间距设置在放卷机的下方，所述导向平台与放卷机之间构成供料带缓冲的缓冲空间，所述料带在缓冲空间内呈U型状走向，所述导向平台的上方间距设置有防折组件，所述防折组件与导向平台之间构成供所述料带通过的导向通道，所述防折组件设置在料带的内弯侧。通过防折组件对料带的内弯侧进行支撑，能够有效的防止料带被过度弯折，能够对料带进行缓冲和缓冲保护，保证料带放卷上料的稳定性。

本发明公开了一种硅钢轧制系统，包括：轧机组，所述轧机组包括M架轧机，用于轧制硅钢，所述M架轧机的前N架轧机的轧辊为高速钢轧辊，其中，M、N为正整数；硅钢检测装置，位于所述轧机组最后一架轧机的出口处，用于对出口硅钢的参数信息进行检测；控制器，与所述硅钢检测装置通信连接，用于在所述参数信息不满足预设参数条件时，控制所述轧机组停止工作；磨床，用于在所述轧机组停止工作后，对所述N架轧机中的每架轧机进行辊形精度检测，对不满足预设辊形精度范围的轧辊进行磨削。

本发明涉及无取向硅钢技术领域，具体提供了一种无取向硅钢的制备方法，对再结晶率为70‑90％、平均晶粒尺寸为10‑15μm、硬度HV为140‑170的硅钢半成品在温度为T＝(772～777)+2900×W(Si)的条件下进行去应力退火，制得无取向硅钢，晶粒在去应力退火过程中均匀长大，平均晶粒尺寸80μm以上，有效降低铁损，使磁性能大幅度提高，铁损P1.5/50≤3.5W/kg，磁感B5000≥1.72T，电磁性能优异，满足客户使用要求，此外，本发明采用的硬度HV为140‑170的硅钢半成品在冲压过程中不易变形，机械加工性能优良。

借助电子背散射衍射(EBSD)及ZEISS-200MAT金相显微镜对某钢厂普通取向硅钢(CGO)进行研究,研究结果表明:热轧板组织、织构沿板厚方向存在明显的不均匀性,在热轧板表层及次表层发生再结晶,同时存在强度较高的Goss织构,中心层存在较强的{001}<110>变形织构。冷轧组织均呈纤维状条带组织,一次冷轧后,热轧板中的Goss织构消失,织构主要为α、γ织构,经中间脱碳退火后,α、γ织构强度减弱,并出现一定强度的Goss织构和利于Goss织构发展的{554}<225>、{332}<113>等织构,经二次冷轧后,二次冷轧织构类型与一次冷轧织构一致,但织构强度不同。 The grain-oriented silicon steel produced by a steel factory was investigated by EBSD and ZEISS-200 MAT metallographic microscope.The results show that the textures and microstructures along thickness of hot rolled slab are inhomogeneous.The surface layer and the layer near that are recrystallized structure which has a high Goss texture,but there is deformation texture{001}<110>in the central layer.The structure after cold rolling is a structure like fiber strip.After the first cold rollin... 

本实用新型公开了一种取向电工钢的多项性能检测装置，涉及取向电工钢技术领域，为解决检测装置在对取向电工钢涂层性能检测时较为繁杂，增加了检测难度，检测的误差增加，且检测装置的性能检测较为单一，检测效果不佳的问题。所述底座的上方设置有安装架和吊梁架，所述安装架上设置有输料辊，输料辊设置有两个，两个所述输料辊之间设置有输送带，所述吊梁架的下方设置有弹性胶带，所述弹性胶带上方的两侧均设置有第三电动伸缩杆，且第三电动伸缩杆的两端分别与吊梁架和弹性胶带通过螺钉连接，所述弹性胶带的一侧设置有检测架，所述检测架上设置有激光灯、第一滤光片、接收器、第二滤光片和聚光片，所述激光灯和第一滤光片设置在弹性胶带的上方。

本发明涉及硅钢卷取领域，具体涉及提高硅钢收卷速度的卷取系统，包括机架、第一卷取辊、第二卷取辊、第三卷取辊和切捆机构，第一卷取辊、第二卷取辊和第三卷取辊依次转动设置于机架上；切捆机构包括切割刀、挤压板和成卷的胶带，切割刀竖直滑动设置于第一卷取辊和第二卷取辊的上方，切割刀上固定有两个支撑条，两个支撑条之间设置有支撑辊，成卷的胶带套设于支撑辊上，切割刀上还设有供胶带穿过的通槽；挤压板内设有装有墨水的盛墨腔，挤压板一侧的两端固定有排墨管，排墨管与盛墨腔连通，且排墨管与切割刀的侧壁转动连接。采用本技术方案时，有利于提高硅钢卷取效率。

本申请涉及一种中温普通取向硅钢及其制备方法，依次包括加热、除鳞、控制轧制、控制冷却、卷取；加热、控制轧制、控制冷却、卷取过程中分别控制硅钢边部组织类型、边部脱碳宽度、边部晶粒大小，从而降低了后续冷轧工序的裂口率和提高了成材率。本申请提供的一种中温普通取向硅钢的制备方法，通过改善加热炉气氛、优化控制轧制工艺、优化控制冷却工艺以及调整板坯的装钢间距。制备后的硅钢边部硬度明显降低，在后续冷轧工序中，严重裂口率显著降低。