【摘要】 研究了退火温度和退火时间对电沉积硅钢试样中的断面层组织、硅在试样中的分布情况、织构分布和磁性能的影响。结果表明:退火温度为1000℃、退火时间为210 min时得到的试样晶粒分布均匀、硅在试样中分布均匀、硅平均浓度为6.3715%(接近6.5%)。试样的织构分析及磁性能检测的结果表明,在较高温度下延长退火时间可增加{100}和{110}面织构,降低铁损,所得试样的磁性能较为良好。
【Abstract】 The effect of annealing temperature and time on the microstructure, distribution of silicon,texture and magnetism of the high silicon steel prepared by electrodeposition was investigated. The results showed that after annealing at 1000℃ for 210 min, the mean grain size of steel was about 190 μm with a uniform grain size distribution, and the silicon is also uniformly distributed on the entire cross section with an average Si concentration 6.3715%(close to 6.5%); With the increasing annealing tim…
高硅钢；
显微组织；
Goss织构；
磁性能；
【Key words】 metallic materials；
high silicon steel；
microstructure；
Goss texture；
magnetism；
原文发表于《材料研究学报》2014年第07期
论文PDF全文下载
暂无PDF全文
